SrTiO3衬底上溅射法外延生长PLZT薄膜

功能材料, 2004, 35(z1): 1142-1147.

1.中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

2.中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

3.中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

4.中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

5.中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050

基金项目: 上海市科委资助项目(015261047)

Epitaxial growth of PLZT thin film on SrTiO3 substrate by sputtering method

用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜取向度的关系.在SrTiO3衬底上成功制备出外延生长的、厚度达1.5μm的PLZT薄膜.

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