6H-SiC晶体生长过程中单晶锭边缘形成的多晶环影响单晶体的品质.本研究制定了以改进坩埚系统结构为主、调整线圈与坩埚相对位置为辅的多晶环厚度控制方案,利用自制设备进行了6H-SiC晶体生长验证实验,实验结果显示所生长6H-SiC单晶体不但周边和表面光滑,未有多晶出现,还实现了显著的扩径生长.
参考文献
[1] | 陈治明.宽禁带半导体电力电子器件研发新进展[J].电力电子技术,2009(11):1-4. |
[2] | 张波,邓小川,张有润,李肇基.宽禁带半导体SiC功率器件发展现状及展望[J].中国电子科学研究院学报,2009(02):111-118. |
[3] | 张玉明,汤晓燕,张义门.SiC功率器件的研究和展望[J].电力电子技术,2008(12):60-62. |
[4] | 陈治明.碳化硅电力电子器件及其制造工艺新进展[J].半导体学报,2002(07):673-680. |
[5] | 刘广荣.SiC功率半导体市场2016年将超过10亿美元[J].半导体信息,2008(01):12. |
[6] | M.V.Bogdanov;A.O.Galyukov;S.Yu.Karpov .Virtual reactor as a new tool for modeling and optimization of SiC bulk crystal growth[J].Journal of Crystal Growth,2001(2/4):307-311. |
[7] | 李现祥,胡小波,董捷,姜守振,李娟,陈秀芳,王丽,徐现刚,王继扬,蒋民华.6H-SiC单晶生长温度场优化及多型控制[J].人工晶体学报,2006(01):41-44. |
[8] | Bahng W.;Nishizawa S.;Yamaguchi H.;Khan MN.;Oyanagi N. Nishino S.;Arai K.;Kitou Y. .Rapid enlargement of SiC single crystal using a cone-shaped platform[J].Journal of Crystal Growth,2000(4):767-772. |
[9] | Noboru Ohtani;Masakazu Katsuno;Hiroshi Tsuge;Tatsuo Fujimoto;Masashi Nakabayashi;Hirokatsu Yashiro;Mitsuru Sawamura;Takashi Aigo;Taizo Hoshino .Dislocation processes during SiC bulk crystal growth[J].Microelectronic engineering,2006(1):142-145. |
[10] | 张群社,陈治明,李留臣,蒲红斌,封先锋.PVT法生长大直径6H-SiC晶体感应加热对系统的影响[J].人工晶体学报,2007(01):180-183. |
[11] | 张群社,陈治明.感应加热线圈对PVT法生长大直径SiC晶体的影响[J].西安理工大学学报,2007(01):83-86. |
[12] | M. Selder;Kadinski .Numerical simulation of global heat transfer in reactors for SiCbulk crystal growth by physical vapor transport[J].Materials Science & Engineering, B. Solid-State Materials for Advanced Technology,1999(0):93-97. |
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