溅射工艺对LaNiO3薄膜结构和电性能的影响

功能材料, 2008, 39(1): 48-50.

溅射工艺对LaNiO3薄膜结构和电性能的影响

张丛春 ^1, , 杨春生 ^2, , 石金川 ^3, , 丁桂甫 ^4,

1.上海交通大学,微纳科学技术研究院,"薄膜与微细技术"教育部重点实验室,"微米/纳米加工技术"国家级重点实验室,上海,200030

2.上海交通大学,微纳科学技术研究院,"薄膜与微细技术"教育部重点实验室,"微米/纳米加工技术"国家级重点实验室,上海,200030

3.上海交通大学,微纳科学技术研究院,"薄膜与微细技术"教育部重点实验室,"微米/纳米加工技术"国家级重点实验室,上海,200030

4.上海交通大学,微纳科学技术研究院,"薄膜与微细技术"教育部重点实验室,"微米/纳米加工技术"国家级重点实验室,上海,200030

基金项目: 国家自然科学基金(60701012) 上海市AM基金(0511) 微米纳米加工技术国家级重点实验室资助项目(9140C79030060C79)

关键词：磁控溅射 , LaNiO3薄膜 , 显微结构 , 电阻率

Effects of process parameters on the microstructure and properties of LaNiO3 thin films

采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜.通过后续热处理使薄膜晶化,并用四探针法测量了薄膜的表面电阻率.借助X射线衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺及热处理温度对薄膜显微结构的影响.实验结果表明,在氧气氛保护下,于550℃处理1h,薄膜晶化.溅射氧分压在10%～25%之间,700℃热处理时可以得到表面光滑致密且电性能较好的薄膜.

参考文献

[1]	Chen Mingsen;Wu Taibor;Wu Jennming .[J].Applied Physics Letters,1996,68(11):1430-1433.
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[4]	李建康,姚熹.LaNiO3衬底上Pb（ZrxTi1-x）O3铁电薄膜及梯度薄膜的制备和研究[J].物理化学学报,2005(05):512-516.
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