利用激光分子束外延异质外延BaTiO3薄膜.通过反射式高能电子衍射对薄膜生长进行原位监测,利用原子力显微镜分析薄膜表面形貌,发现在沉积速率为0.016nm/s,激光功率为6J/cm2的条件下,当基片加热温度高于480℃时,BaTiO3薄膜以层状生长模式进行生长;而当温度在430～480℃之间时,薄膜生长为SK模式,即层状加岛状的混合生长模式.进一步降低基片加热温度,在430℃以下观察到了三维岛状生长模式.通过优化激光功率和沉积速率等工艺参数,得到了层状生长BaTiO3薄膜的最低结晶温度为330℃.根据实验结果分析了激光功率对薄膜生长温度的影响.同时结合X射线衍射分析在不同的生长条件下,研究温度对薄膜异质外延生长的影响,发现在较高的生长温度下,在BaTiO3薄膜生长过程中,位错产生的几率较小,薄膜的外延性好,而在较低的生长温度下,薄膜内部位错较多,异质外延性不佳.
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