射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

金属学报, 1999, 35(4): 439-442.

射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

郭建东 , 李银安 , 赵汝文 , 王恩哥

中国科学院物理研究所表面物理国家重点实验室

北京 100080

关键词：氮化碳薄膜 , null , null , null

null , null , null , null

Keywords： null , 射频磁控溅射 , 沉积 , 结构

利用反应性质频磁控溅射在Ｓｉ（１００）单晶衬底上沉积氮化碳薄膜, 并系统地了薄膜的结构, 成分及化学键等信息. Ｘ射线衍射分析表明, 制备的氮化碳薄膜具有非晶结构. 红外吸收谱说明薄膜中碳, 氮原子结构成化学键.

参考文献

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