MoSi2高温氮化行为的研究

稀有金属材料与工程, 2007, 36(z1): 276-278.

MoSi2高温氮化行为的研究

黄朝晖 ^1, , 胡建辉 ^2, , 杨景周 ^3, , 刘艳改 ^4, , 房明浩 ^5,

1.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083

2.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083

3.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083

4.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083

5.中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083

基金项目: 国家重点实验室基金(G0608) 国家自然科学基金(50572098)

关键词： MoSi2 , 氮化行为 , 相组成 , Mo5Si3 , Si3N4

Nitridation Behavior of MoSi2 at High Temperature

以MoSi2粉体为原料,分别在1400、1500、1600、1700 ℃温度下,0.9 MPa氮气气氛条件下保温3 h,研究了MoSi2的高温氮化行为.XRD、SEM和EDS研究结果表明:MoSi2的氮化产物主要有Mo5Si3和Si3N4,同时还有SiO2和Si2N2O生成,氮化生成的Si3N4呈针柱状.MoSi2氮化后生成的Si3N4的量随氮化温度的升高而增加.

参考文献

[1]	江莞,赵世柯,王刚.二硅化钼材料的研究现状及应用前景[J].无机材料学报,2001(04):577-585.
[2]	张海军,刘战杰,钟香崇.煤矸石还原氮化合成O'-Sialon及热力学研究[J].无机材料学报,2004(05):1129-1137.
[3]	吴宏鹏;洪彦若;孙加林 .[J].桂酸盐学报,2005,33(01):1.
[4]	Jin-Kook Yoon et al.[J].Surface and Coatings Technology,2002,160:29.
[5]	Tateoki Iizuka;Hideki Kita .[J].Material Science and Engineering,2004,374:115.
[6]	Xiaobao Fan .[J].Thin Solid Films,1998,316:174.

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Nitridation Behavior of MoSi2 at High Temperature

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