Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征

功能材料, 2004, 35(z1): 1068-1070.

Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征

殷景华 ^1, , 蔡伟 ^2, , 王明光 ^3, , 郑玉峰 ^4, , 赵连城 ^5,

1.哈尔滨理工大学,应用科学学院,黑龙江,哈尔滨,150080

2.哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

3.中科院沈阳金属研究所,固体原子像实验室,辽宁,沈阳,110015

4.哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

5.哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,黑龙江,哈尔滨,150001

关键词： Pt/Au/p-Si , 薄膜 , 硅化物分布 , 表面和界面结构

Structure of Pt/Au/p-Si Films prepared by sputtering

在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.

参考文献

[1]	Kojima D;Makihara K;Shi J.[J].Applied Surface Science,2001:169-179,320-324.
[2]	Horng G J;Chang C Y;Ho C.[J].Thin Solid Films,2000:374,80-84.
[3]	Lyu Y T;Lee C T;Horng G J.[J].Materials Chemistry and Physics,2002:74,177-181.
[4]	Das S R;Sheegar K;Xu D X et al.[J].Thin Solid Films,1994,253:467-472.
[5]	Hiraki A;Nicolet M A;Mayer J W.[J].Applied Physics Letters,1971:18,178-181.
[6]	Jinghua Yin;Meicheng Li;WeiCai et al.Peilin Wang,Liancheng Zhao[J].Journal of Materials Science and Technology,2001,17(04):39-40.

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