AgOx掩膜的制备和性能研究

功能材料, 2003, 34(2): 156-157.

AgOx掩膜的制备和性能研究

张约品 ^1, , 阮昊 ^2, , 沈德芳 ^3, , 干福熹 ^4,

1.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,20180;宁波大学,光电子功能材料研究所,浙江,宁波,315211

2.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

3.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

4.中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(19990330) 国家自然科学基金(59832060)

关键词： AgOx , 反应溅射 , 掩膜

Preparation and properties investigation of AgOx mask films

磁控反应溅射制备了AgOx掩膜,用聚焦激光热效应装置测得的光透过特性,分析了AgOx掩膜的开关性能.结果表明,AgOx掩膜在较低的温度作用下有良好的开关性能,反应AgOx Ag+O2可逆,适用于LSC-super-RENS光盘.用X-ray和TEM分析了热处理后的AgOx薄膜的成分结构,表明200℃热处理AgOx掩膜存在纳米量级Ag颗粒.

参考文献

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