欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

为了提高氮等离子体浸没离子注入Ti-6Al-4V合金时氮原子的峰值深度, 利用钇来增加氮在基体中的注入深度和扩散深度, 先用20 kV的电压进行钇等离子体浸没离子注入处理, 然后用30 kV的电压进行氮等离子体浸没离子注入处理. 俄歇能谱测试表明氮原子的峰值深度有明显提高, 注钇时间为30 min的试件, 氮原子的峰值深度从50 nm上升到100 nm. 摩擦性能测试表明处理后试件的抗磨损能力大大提高.

参考文献

[1] 王松雁.Ti6A14V的射频激励等离子体浸没离子注入[J].表面工程,1997(02):18.
[2] 汤宝寅.等离子体源离子注入(Ⅰ)--原理和技术[J].物理,1994(01):41.
[3] CONRAD J R;RADTKE J L;DOD R A.Plasma source ion implantation technique for surface modification of materials[J].Journal of Applied Physiology,1987(62):4591-4594.
[4] 王世清;王立择;杨爱华.稀土元素在化学热处理中的应用[J].金属热处理,1988(03):52-59.
[5] 谢飞.钇对17CrMoV钢离子氮化特性的影响及催渗机理的探讨[J].稀土,1996(03):21.
[6] ZHANG Y D;BUDNICK J I;YANG D P et al.Nitrogen diffusion and distribution in the Y2Fe11 lattice[J].Condensed Matter,1997,51(08):1201-1216.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%