选取能量为80keV、剂量范围为1×10~(16)-8.3×10~(17)N~+·cm~(-2)的氮离子对L2,LD2,LF12,LY12,Al-4%Cu 等Al 合金进行氮离子注入,并用X 射线光电子能谱及透射电子显微镜分析了氮离子注入层的价态特征及组织结构特点。在此基础上进行了硬度及耐磨性试验。氮离子注入到Al 及Al 合金中在室温下能形成细小弥散的AlN 析出相;氮离子注入加速了Al-4%Cu 合金的时效析出过程。Al 及Al 合金表层硬度及耐磨性随着氮离子注入剂量的增加而提高。
Aluminum alloys L2,LD2,LF12,LY12,AI-4%Cu were implanted with ni-trogen ions at energy of 80keV at room temperature and dose range of 1×10~(16)—8.3×10~(17)N~+·cm~(-2).The surface structure,chemical bond of the implanted surafce layer were in-vestigated by
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