欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

从理论上计算出GaAs/Si异质结在Si的(211)面上界面态密度最小,故GaAs在Si(211)面上生长晶格失配度较小.同时,为了缓解晶格失配,我们采用生长一层GaAs多晶层或Te过渡层得到较好的结果.

参考文献

[1] Sarronanan S;Jeganathan K;Baskar K et al.[J].Japanese Journal of Applied Physics,1997,36(6A):3385-3388.
[2] YasuhiKo Hayashi;Yasunori Agata .[J].Japanese Journal of Appl Mags,1998,37:L1345-L1357.
[3] Wijewarnasuriga P S;Zandiam M;DiEdwali D et al.[J].Journal of Electronic Materials,1998,27(06):546.
[4] Wany J F;Qikuchi K;Koo B H et al.[J].Journal of Crystal Growth,1998,187:373-379.
[5] Sadeghi M;Sittar H;Grwzer.[J].Journal of Crystal Growth,1984(70):103-107.
[6] Baldus A.;Sulima OV.;Wettling W.;Bett A. .INVESTIGATION OF GAAS GROWTH FROM BI-BASED MELTS FOR SOLAR CELLS[J].Journal of Crystal Growth,1995(1/4):305-309.
[7] 谭红琳,张鹏翔,刘翔,吴长树.拉曼-光荧光光谱热壁外延生长GaAs/Si薄膜晶体质量研究[J].光谱学与光谱分析,2001(04):498-500.
[8] 谭红琳,莫玉东.CdZnTe(CZT)体单晶的Raman-PL光谱的再分析[J].光电子·激光,2001(08):854-856.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%