离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

功能材料, 2010, 41(5): 886-891.

离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

张娟 ^1, , 沈鸿烈 ^2, , 鲁林峰 ^3, , 唐正霞 ^4, , 江丰 ^5, , 李斌斌 ^6, , 刘恋慈 ^7, , 沈洲 ^8,

1.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

2.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

3.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

4.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

5.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

6.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

7.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

8.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA03Z219)

关键词： β-FeSi2 , 离子束溅射沉积 , Fe/Si多层膜 , 石英衬底

Research on β-FeSi2 thin films from Fe/Si multilayers deposited by ion beam sputtering

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响.结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数＞105cm-1.

参考文献

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