采用硅烷偶联剂γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)处理纳米SiO2,并用FT-IR、ζ-电势、TG、TEM对纳米SiO2的处理效果进行了表征.结果表明,纳米SiO2的接枝率随偶联剂MPS加入量的增加而增加;当pH值为4,MPS/SiO2为50%,反应温度为110 ℃、时间为90 min时,纳米SiO2表面MPS的接枝包覆率达到35.7%;此时纳米SiO2粒子在乳液中的分散更为均匀.
参考文献
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