本文应用高分辨X射线衍射(HRXRD+TAXRD)技术对外延生长的SrTiO3膜进行了分析,获得了有关该薄膜的晶体取向、衬底的结构特性以及弛豫态的点阵常数等信息,对今后改进SrTiO3系列样品生长工艺有重要的意义.
参考文献
[1] | He S M;Li D H;Deng X W et al.[J].Microelectronic Engineering,2003,66:891-895. |
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