采用CS-400型射频磁控溅射仪在Si(111)和石英基底上成功的制备了Zn1-xCuxO薄膜,薄膜的晶体取向和表面形貌用X射线衍射(XRD)仪和扫描电子显微镜 (SEM)进行测量.利用紫外-可见光(UV-vis)分光光度计来测量基片为石英的Zn1-xCuxO薄膜的透射光谱.实验表明,采用射频磁控溅射制备的掺Cu氧化锌薄膜具有(002)峰的择优取向.随着Cu掺入量的增加样品成膜质量降低,禁带宽度减小,透射率下降.
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