硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

功能材料, 2009, 40(10): 1660-1662.

硅基图案化HfO2表面微结构的制备和表征

谈国强 ^1, , 博海洋 ^2, , 苗鸿雁 ^3, , 夏傲 ^4, , 贺中亮 ^5,

1.陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021

2.陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021

3.陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021

4.陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021

5.陕西科技大学,教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室,陕西,西安,710021

基金项目: 国家自然科学基金(50672055;5087207) 国家科技支撑计划(2006BAF02A28)

关键词：微图案 , 光刻印 , HfO2微结构

Preparation and characterization of patterned HfO2 microstructures on silicon surface

结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜,该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注.X射线衍射(XRD)与扫描电镜(SEM)显示,在图案区域成功制备了HfO2薄膜,EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成.

参考文献

[1]	Pique A;Chrisey D B.Direct-write Technologies for Rapid Prototyping Applications:Sensors,Electronics,and Integrated Power Sources[M].San Diego:academic Press,2002
[2]	Moreau W M.Semiconductor Lithography:Principles and Materials[M].New York:Plenum,1988
[3]	金邦坤 .用软刻蚀技术制造聚合物微结构[D].中国科学技术大学,2002.
[4]	Liu G Y;Xu S;Qian Y .[J].Accounts of Chemical Research,2000,33:457.
[5]	Xu S;Liu G .[J].Langmuir,1997,13:127.
[6]	Kramer S;Fuierer R R;Gorman C B .[J].Chemical Reviews,2003,103:4367.
[7]	Hulteen J C;Van Duyne R P .[J].J Vac Sci Technol,A,1995,13:1553.
[8]	Hulteen J C;Treichel D A;Smith M T et al.[J].Journal of Physical Chemistry B,1999,103:3854.
[9]	Kuo CW.;Shiu JY.;Chen PL. .Size- and shape-controlled fabrication of large-area periodic nanopillar arrays[J].Chemistry of Materials,2003(15):2917-2920.
[10]	Bullen H A;Garrett S J .[J].NANO LETTERS,2002,2:739.
[11]	Frey W.;Chilkoti A.;Woods CK. .Ultraflat nanosphere lithography: A new method to fabricate flat nanostructures[J].Advanced Materials,2000(20):1515-1519.
[12]	贺中亮,苗鸿雁,谈国强,刘剑,夏傲,娄晶晶.二氧化铪（HfO2）功能陶瓷薄膜的自组装制备[J].功能材料,2009(01):107-108,111.

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