埋地深度是接地网防腐蚀的重要指标,目前对其研究较少.采用交流阻抗谱(EIS)、线性极化法研究了紫铜材料在不同深度土壤中的电化学腐蚀特征,分析了不同深度土壤理化性质的差异对钝化膜生长过程及紫铜腐蚀速率的影响;通过扫描电镜(SEM)和X射线光电子谱(XPS)技术检测了腐蚀后紫铜的表面状况和腐蚀产物的元素价态及成分.结果表明:水力淋洗使盐类离子在深层土壤中富集;紫铜在埋地25 cm深处钝化膜仅需1周即可生长完成,氧气的氧化使致密的Cu2O膜转化生成CuO膜,膜层保护作用较差,引发紫铜的点蚀,腐蚀后期钝化膜大面积脱落;埋地45 cm深处紫铜钝化膜生长缓慢,长达41 d,但膜层完整致密,保护作用强,其主要成分为Cu2O;腐蚀70 d后,埋地25 cm紫铜腐蚀电流密度为91.01 nA/cm2,而45 cm深处紫铜仅为7.56 nA/cm2.
参考文献
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