化学气相沉积法制备金刚石薄膜的工业应用

材料导报, 2001, 15(3): 24-27.

1.中国科学院等离子体物理研究所,

2.中国科学院等离子体物理研究所,

3.武汉化工学院材料工程系

Industrial Applications of Chemical Vapor Deposition Diamond Films

评述了金刚石薄膜的化学气相沉积方法,介绍了金刚石薄膜在工业中的应用前景,并分析了大规模应用所面临的技术困难.

[1]	Shibuki K;Sasaki K;Yagi M et al.[J].Surface and Coatings Technology,1994,68/69:369.
[2]	Karner J;Pedrazzini M;Reineck I et al.[J].Materials Science and Engineering,1996,A209:405.
[3]	Yamamoto Y;Imai T;Tanabe K et al.[J].Diamond and Related Materials,1997,6:1057.
[4]	代明江;匡同春;王德政 .[J].功能材料,1998,29(05):514.
[5]	Zhu W;Mccune R C et al.[J].Diamond and Related Materials,1995,4:220.
[6]	Narayan J;Godbole V P;Matera G .[J].Journal of Applied Physics,1992,71(02):966.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分