Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究

稀有金属材料与工程, 2014, 43(12): 2966-2968.

Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究

刘意春 ^1, , 张家敏 ^2, , 严继康 ^3, , 杜景红 ^4, , 甘国友 ^5, , 易健宏 ^6,

1.昆明理工大学,云南昆明650093

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基金项目: Fund for Fostering Talents of Kunming University of Science and Technology (KKSY201251115) National Natural Science Foundation of China (51274107) China Postdoctoral Science Foundation Funded Project (2013M531986)

关键词： Fe-Ni合金薄膜 , 电沉积 , 硅基底 , 磁性能

Direct Electrodeposition of Fe-Ni Alloy Films on Silicon Substrate

Keywords： Fe-Ni alloy film , electrodepositing , silicon substrate , magnetic properties

在n-型Si片(100)面上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜,并对电沉积过程特征及薄膜的结构和性能进行了研究.当阴极电流密度高于1.0 A/dm2时,可获得连续致密的合金薄膜,且电沉积表现为异常共沉积过程.在1.0～4.0 A/dm2范围内改变电流密度可调控合金薄膜的Ni质量分数从45％到78％之间改变,对应的电流效率在60％到66％之间变动.从XRD和TEM结果来看,合金薄膜由尺寸为10～30nm的纳米晶粒组成,且表现为Fe-Ni面心立方固溶体结构.合金薄膜的磁滞回线表现出较高的饱和磁化强度和接近于零的矫顽力,表明该种纳米合金薄膜具有很好的软磁性能.

参考文献

[1]	Pasa A.A.;Schwarzacher W. .Electrodeposition of thin films and multilayers on silicon[J].Physica Status Solidi, A. Applied Research,1999(1):73-84.
[2]	Gao LJ.;Novogradecz KM.;Norton PR.;Ma P. .CHARACTERIZATION OF PERMALLOY THIN FILMS ELECTRODEPOSITED ON SI(111) SURFACES[J].Journal of Applied Physics,1997(11):7595-7599.
[3]	Fricoteaux P;Rousse C .Influence of substrate, pH and magnetic field onto composition and current efficiency of electrodeposited Ni-Fe alloys[J].Journal of Electroanalytical Chemistry: An International Journal Devoted to All Aspects of Electrode Kinetics, Interfacial Structure, Properties of Electrolytes, Colloid and Biological Electrochemistry,2008(1):9-14.

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