磁流变抛光液的研制

功能材料, 2002, 33(5): 490-494.

磁流变抛光液的研制

张峰 ^1, , 潘守甫 ^2, , 张学军 ^3, , 张忠玉 ^4, , 郑立功 ^5, , 程灏波 ^6, , 牛海燕 ^7,

1.吉林大学,原子分子物理研究所,吉林,长春,130023

2.吉林大学,原子分子物理研究所,吉林,长春,130023

3.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022

4.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022

5.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022

6.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022

7.长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究室,吉林,长春,130022

基金项目: 国家自然科学基金(60108003)

关键词：磁流变抛光 , 磁流变抛光液 , 剪切应力 , 抛光区 , 材料去除率

Study on magnetorheological polishing fluid

磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.

参考文献

[1]	Wm I Kordonski.Adaptive Structures Based on Magnetorheological Fluids. Proc 3rdInt Conf,Adaptive Struct[C].San Diego,1992
[2]	Prokhorov I V;Kordonsky W I;Gleb L K et al.[J].Osa of and T Workshop Digest,1992,24:134-136.
[3]	张峰,余景池,张学军,谭庆昌.对磁流变抛光技术中磁场的分析[J].仪器仪表学报,2001(01):42-44,48.
[4]	Ashour O;Kinder D;Giurgiutiu V .[J].SPIE,1997,30-40:174-184.
[5]	杨仕清;张万里;龚捷等.[J].功能材料,1998,29(05):550.
[6]	Wohlfarth E P.铁磁材料-磁有序物质特性手册[M].上海:电子工业出版社,1993:348.

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