氮气流量对电弧离子镀TiN薄膜性能的影响

功能材料, 2004, 35(z1): 3165-3170.

1.华南理工大学,机械学院,广东,广州,510640

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4.华南理工大学,机械学院,广东,广州,510640

基金项目: 广东省自然科学基金(116-B65130) 广东省科技攻关项目(102-B26650)

Effect of the nitrogen flow on the properties of TiN thin films in arc ion plating

氮化钛是一种应用较广泛的硬质薄膜,其性能受许多因素的影响,本文只改变氮气流量,固定其它工艺参数,对镀覆的氮化钛薄膜性能进行了分析和研究,得出了获得较好氮化钛薄膜综合性能的氮气流量.

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