MgB2/Ta多层膜的制备及性质

低温物理学报 , 2016, 38(6): 65-68.

MgB2/Ta多层膜的制备及性质

周章渝 ^1, , 侯雪 ^2, , 杨晓玲 ^3, , 陈会 ^4, , 王松 ^5, , 卢海秋 ^6, , 肖植芬 ^7, , 傅兴华 ^8,

1.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳550025;贵州省微纳电子与软件技术重点实验室,贵州贵阳550025

2.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳,550025

3.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳,550025

4.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳,550025

5.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳550025;贵州省微纳电子与软件技术重点实验室,贵州贵阳550025

6.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳,550025

7.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳,550025

8.贵州大学大数据与信息工程学院,贵州贵阳550025;贵州省微纳电子与软件技术重点实验室,贵州贵阳550025

基金项目: 贵州大学引进人才科研资助项目[贵大人基合字(2013)18号(自然科学)]资助的课题.Project supported by the introduce talents of guizhou university scientific research projects ((2013)18)

关键词： MgB2超导薄膜 , 钽薄膜 , 多层膜 , 混合物理化学气相沉积法 , 磁控溅射技术

The Fabrication and Property of MgB2/Ta multilayer

Keywords： MgB2 superconducting thin films , Ta thin films , multilayers , hybrid physical-chemical vapor deposition(HPCVD) , Magnetron sputtering technology (MS)

本文应用磁控溅射技术(MS)和混合物理化学气相沉积法(HPCVD)在单晶Al2 O3基底上制备MgB2/Ta多层膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)和标准四线法对MgB2/Ta试样的表面形貌、晶体结构、超导特性及断面结构进行了测量研究.结果表明MgB2/Ta多层膜结构清晰,超导薄膜显示出良好的超导特性.

The MgB2/Ta multilayer were fabricated,which the MgB2 layers were grown by using the hybrid physics-chemistry vapor deposited (HPCVD)',the Ta films were prepared with Magnetron sputtering technology.Scanning electron microscopy,X-ray diffraction,atomic force microscope and our-point probe method were carried out to study cross-sectional structure,superconducting properties and crystal structure of MgB2/Ta multilayer.The results addressed that the structure of MgB2/Ta multilayer film is clear and the superconducting thin films show good characteristics.

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