采用单次分子镀方法研究了异丙醇-硝酸体系中电流密度、分子镀持续时间及两极间距离对镀层性能和电沉积效率的影响,确定了制备La,Sm,Eu,Gd,Tb靶及238U靶的最佳工艺条件.因制备的靶不同,电流密度一般介于2-8 mA/cm2之间,两极间最优距离为3 cm,分子镀1 h,用分光光度法测定各靶的沉积效率均高于85%.利用扫描电子显微镜(SEM)对部分靶的表面形貌分析后发现靶面结构均匀致密.目前制得的Gd靶和Tb靶已用于中国科学院近代物理研究所加速器SFC低能核化学终端上,利用19F束流轰击,分别产生了Ta和W的短寿命同位素,从而成功完成了Db(Z=105)及Sg(Z=106)的模型试验.
参考文献
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