离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究

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基金项目: 国家自然科学基金(59971035)

Ion-beam Assisted Magnetron Sputtering Deposition of Titanium Nitride Films

利用三离子束辅助沉积设备,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜.实验结果表明:离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度、耐磨性和耐蚀性,改善了膜基结合力.

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