为了提高MOCVD反应室衬底温度均匀性,提出一种基于建模和优化的控制策略.采用神经网络建立反应室温度特性模型,得到输入功率与反应室衬底温度场之间的关系,在此基础上,以温度均匀性为性能指标,采用仿生优化算法对输入功率配比进行优化,实现MOCVD反应室衬底温度的均匀控制.仿真结果验证了所提出方法的有效性.
参考文献
[1] | 于海群,左然,陈景升.一种多喷淋头式MOCVD反应器的设计与数值模拟[J].人工晶体学报,2011(04):1065-1070,1082. |
[2] | 徐谦,左然,张红.反向流动垂直喷淋式MOCVD反应器设计与数值模拟[J].人工晶体学报,2005(06):1059-1064. |
[3] | 李志明,郝跃,张进成,陈炽,薛军帅,常永明,许晟瑞,毕志伟.立式MOCVD反应室中一种刻槽基座的热分析[J].人工晶体学报,2010(04):1072-1077. |
[4] | Charles D. Schaper;Thomas Kailath;Yong Jin Lee .Decentralized control of wafer temperature for multizone rapid thermal processing systems[J].IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing: A Publication of the IEEE Components, Hybrids, and Manufacturing Technology Society, the IEEE Electron Devices Society, the IEEE Reliability Society, the IEEE Solid-State Circuits Council,1999(2):193-199. |
[5] | 过润秋,解宝辉.基于Fuzzy-PID的MOCVD温度控制方法[J].西安电子科技大学学报(自然科学版),2005(04):504-507,517. |
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