为研究AZ91D表面微弧氧化过程中的放电现象及膜层特性,采用高速摄像机记录微弧氧化试样表面在Na2SiO3-NaOH电解液体系下放电过程的瞬间图像.用扫描电子显微镜(SEM)对微弧氧化膜层截面形貌和表面形貌进行观察,利用X射线衍射仪(XRD)分析膜层的相组成.结果表明:AZ91D合金在微弧氧化稳定阶段,放电过程呈周期性变化规律.AZ91D合金微弧氧化膜层由致密层与疏松层构成,靠近基体一侧为致密层,膜层外侧为疏松层,在疏松层表面存在微孔和裂纹缺陷,膜层最大厚度约为169 μm.陶瓷膜层主要由MgO和Mg2SiO4相组成,且以MgO相为主.
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