利用乙酸乙酯作为均匀沉淀剂在钛酸钾晶须表面成功包覆了SiO2无机层.利用SEM、FTIR、XRD、EDX等手段对钛酸钾晶须表面包覆层进行了表征和定量分析,并利用Zeta电位仪测试了包覆前后钛酸钾晶须的表面电荷情况.结果表明钛酸钾晶须表面形成了无机SiO2层,并与晶须表面有一定的相互作用;包覆后晶须表面性质接近于SiO2,有助于钛酸钾晶须进一步表面偶联处理.
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