阴极电弧离子沉积TiN/Ti镀层腐蚀特性

稀有金属材料与工程, 2005, 34(11): 1774-1777.

阴极电弧离子沉积TiN/Ti镀层腐蚀特性

鲜晓斌 ^1, , 王庆富 ^2, , 刘柯钊 ^3, , 刘清和 ^4,

1.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

2.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

3.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

4.中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

关键词：基片偏压 , TiN/Ti镀层 , 针孔 , 腐蚀

Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc Deposited TiN/Ti Coatings

采用电化学线性极化、交流阻抗谱技术研究了不同基片偏压上阴极电弧沉积TiN/Ti镀层在50×10-6g/g Cl-溶液中的腐蚀行为,并对镀层腐蚀的机理进行了探讨.结果表明:基片偏压-400V时,镀层耐蚀性能好;镀层表面的针孔是诱发镀层和基材体系发生点蚀、电偶腐蚀的主要缺陷.

参考文献

[1]	田民波;刘德令.薄膜科学与技术手册[M].北京:冶金工业出版社,2002:730.
[2]	Marco J.F.;Gancedo J.R.;Hanzel D.;Agudelo A.C. .Corrosion resistance of single TiN layers, Ti/TiN bilayers and Ti/TiN/Ti/TiN multilayers on iron under a salt fog spray (Prohesion) test: An evaluation by XPS[J].Surface and Interface Analysis: SIA: An International Journal Devoted to the Development and Application of Techniques for the Analysis of Surfaces, Interfaces and Thin Films,1999(2):71-75.
[3]	Vershinin N;Filonov K;Straumal B .[J].Surface and Coatings Technology,2000,125:229.
[4]	Vershinin N;Filonov K;Straumal B .[J].Surface and Coatings Technology,2000,125:223.
[5]	Wang H W;Stack M M;Lyon S B .[J].Surface and Coatings Technology,2000,126:279.
[6]	Liu C.;Bi Q.;Matthews A.;Leyland A. .Corrosion resistance of multi-layered plasma-assisted physical vapour deposition TiN and CrN coatings[J].Surface & Coatings Technology,2001(2/3):164-173.
[7]	黄鹤,王学刚,朱晓东,陈华,何家文.离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究[J].稀有金属材料与工程,2002(03):205-208.

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