用化学氧化聚合复合方法合成聚吡咯/二氧化硅(PPy/SiO2)纳米复合材料.首先用不同百分含量的氨丙基三乙氧基硅烷(APS)处理SiO2,然后以水为反应介质,通过化学聚合方法合成PPy/APS-SiO2纳米复合材料,并利用红外光谱、热失重、X射线光电子能谱(XPS)、透射电镜和四探针等手段进行表征.结果表明,用APS处理过的SiO2合成的复合材料PPy含量增加,且通过XPS看出PPy/APS-SiO2表面富有PPy,而PPy/SiO2表面富有SiO2.其中用1%APS-SiO2合成的复合材料电导率最高,为38.46 S/cm.
参考文献
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