研究了AZ52ME反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚2μm的金薄膜.用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面.
参考文献
[1] | 韩阶平;侯豪情;邵逸凯 .[J].真空科学与技术,1994,14(03):215-219. |
[2] | 闫桂珍,张大成,李婷,王颖.金属剥离与衬底腐蚀等平面自对准OHR技术研究[J].微纳电子技术,2002(01):40-43. |
[3] | 王文如,杨正兵.微细金属图形制作中的剥离技术[J].压电与声光,2001(01):68-73. |
[4] | Peng Yao .[J].Proceedings of Spie,2000,5342:165-172. |
[5] | 庄同曾;张安康;黄兰芳.集成电路制造技术--原理与实践[M].北京:电子工业出版社,1987 |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%