以(100)硅片为衬底,通过双离子束溅射生长不同厚度的Cu纳米薄膜.利用原子力显微镜及椭偏仪对样品进行分析和研究.结果表明:离子束在斜入射45°的条件下溅射,原子通量的峰值与法线夹角约为15.1°,膜厚度按照余弦五次方分布,并给出了法线两边对称分布薄膜的表面粗糙度变化公式.研究表明双离子束溅射制备的薄膜优于其他方法生长的薄膜,膜的表面平整度、厚度均匀性更好.
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