欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

目的 研究磁控溅射工艺参数,包括溅射功率、溅射时间,对TiN涂层轴承钢表面性能的影响.方法 采用磁控溅射技术,固定其他工艺参数不变,分别以溅射功率和溅射时间为变量,在轴承钢GCr15表面镀制TiN膜层,并测定硬度,进行摩擦磨损试验.结果 固定溅射功率为200 W,随镀膜时间的延长,硬度和耐磨性呈递减趋势,镀膜时间为5 ~ 10 min时,硬度值达345.23 ~ 353.88HV,摩擦磨损量为2.9 ~3.4 mg.固定镀膜时间为30 min,随着溅射功率从70 W增大至200 W,硬度与耐磨性也呈递减趋势,溅射功率为100 W时,硬度值可达577.91 HV,摩擦磨损量为0.9 mg.结论 溅射功率的影响占主导地位,且溅射功率不宜偏高.欲提升材料表面硬度和耐磨性能,溅射功率取100 W,镀膜时间取30 min最为适宜.

参考文献

[1] 虞明全.轴承钢钢种系列的发展状况[J].上海金属,2008(03):49-54.
[2] 唐佩绵 .日本弹簧钢和轴承钢发展变化[J].世界金属导报,2011,21(05)
[3] HOU Guo-an;CUI Yan-hong .Rolling Beating Failure Forms and Preventive Measures[J].Petro & Chemical Equipment,2010,13(12):54-56.
[4] Musil J;Baroch P;Vlcek J;Nam KH;Han JG .Reactive magnetron sputtering of thin films: present status and trends[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2005(1/2):208-218.
[5] LIEVENS H .Wide Web Coatings of Complex Materials[J].Surface and Coatings Technology,1995,744:76-77.
[6] SAFI I .Recent Aspects Concerning DC Magnetron Sputtering of Thin Films:a Review[J].Surface and Coatings Technology,2000,127:203-219.
[7] KIRCHOFF V;KOPTE T;WINKLER T et al.Dual Magnetron Sputterring (DMS) System with Sine-wave Power Supply for Large-area Coating[J].Surface and Coatings Technology,1998,98:828-833.
[8] 曹德峰,万小波,邢丕峰,易泰民,杨蒙生,郑凤成,徐导进,王昆黍,楼建设.工作气压对直流磁控溅射Mo薄膜的影响[J].表面技术,2013(01):71-74.
[9] 霍红英,邹敏,马光强,常会.本底真空度对磁控溅射法制备AZO薄膜的影响[J].表面技术,2013(01):75-77.
[10] 田颖萍,范洪远,成靖文.氮氩流量比对磁控溅射TiN薄膜生长织构的影响[J].表面技术,2012(03):19-21,25.
[11] 廖国,何智兵,陈太红,许华,李俊,谌加军.溅射功率对磁控溅射制备Bi薄膜结构和性能的影响[J].原子能科学技术,2012(06):749-753.
[12] 李学超,李长生,晋跃,陈娟,莫超超,朱秉莹.磁控溅射TiAIN和WTiN薄膜的制备与摩擦性能研究[J].真空,2011(01):43-45.
[13] 刘敏,许晓静,张体峰,凌智勇,盛新兰,陈丹.TiNi表面磁控溅射DLC薄膜的纳米压痕与摩擦性能[J].润滑与密封,2012(03):42-44.
[14] 陈俊杰,刘利国.硬质合金刀具表面磁控溅射TiN涂层的摩擦磨损性能研究[J].润滑与密封,2008(08):41-43,46.
[15] 张宁.高速钢磁控溅射离子镀TiN涂层的性能研究[J].热加工工艺,2009(16):104-106.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%