采用电沉积技术制备了纳米晶镍-钨-稀土合金镀层,重点研究了其制备工艺及镀层性能,探讨了电流密度、电沉积时间、镀液中稀土含量、镀液pH值和镀液温度等因素对镀层沉积速率的影响;用SEM、XRD、EDS、阳极极化曲线等方法分析了镀层的表面形貌、结构、组成、耐蚀性和抗氧化性等.结果表明:合金镀层的最佳制备工艺条件为电流密度9.5 A·dm-1、镀液pH值7、电沉积时间70 min、镀液温度50℃、镀液中NdCl3添加量4.5 g·L-1或镀液中Ce(SQ4)2添加量3 g·L-1;添加稀土元素钕、铈后合金镀层表面颗粒排列致密、均匀,表面无裂纹,其抗高温氧化性和耐蚀性能与硬铬镀层比较相差较小.
参考文献
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[2] | Tohru Yamasaki .HIGH-STRENGTH NANOCRYSTALLINE Ni-W ALLOYS PRODUCED BY ELECTRODEPOSITION AND THEIR EMBRITTLEMENT BEHAVIORS DURING GRAIN GROWTH[J].Scripta materialia,2001(8-9):1497-1502. |
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[4] | 朱明华,李立青.稀土添加剂在金属电沉积中的应用研究进展[J].电镀与涂饰,2006(06):46-48,53. |
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