用磁控反应溅射法制备了ＺｎＯ：Ａｌ薄膜, 研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌, 并对ＺｎＯ：Ａｌ薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了ＸＰＳ和ＡＥＳ分析, 同时也讨论了薄膜的光学电学性能.
参考文献
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