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使用两步插层方法制备了插层蒙脱土,用红外光谱(IR)和x射线衍射(XRD)图谱对插层效果进行了表征.结果表明,十八烷基胺以及8-羟基喹啉已进入蒙脱土层间,蒙脱土层间距分别由1.17 nm增加到1.57 nm和1.82 nm.EIS结果显示插层蒙脱土显著提高了环氧涂层的耐蚀性.

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