通过控制烧成温度制得无光效果较好的釉,采用X-射线衍射分析和扫描电镜分析等对试样进行测试,并对无光釉的析晶机理进行了分析.结果表明:对于SiO2/Al2O3比值>10,掺入适量的B2O3、ZnO等矿化剂的配方,在烧成温度为1170℃,保温30min后,釉层表面有大量3~10微米方石英晶粒均匀析出,使得釉面无光效果良好,釉面呈丝绢质光泽;方石英的析出有赖于分相过程,分相为方石英的析出提供了非均态核化界面和过饱和条件;方石英的析出温度,应保证系统处于分相状态且熔体具有较低的粘度,温度过高或过低难以满足此条件,且晶核形成和晶体长大过程均在适宜的烧成温度下的保温过程中完成.
参考文献
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