SiON薄膜中氢的研究

材料导报, 2000, 14(3): 48-49.

1.浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室.杭州,310027

2.浙江省建筑科学设计研究院,杭州,310097

3.浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室.杭州,310027

4.浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室.杭州,310027

5.浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室.杭州,310027

6.浙江大学材料系,硅材料国家重点实验室.杭州,310027

Study of Hydrogen in SiON Thin Films

氮氧化硅(SiON)薄膜是一种新型的薄膜材料,具有优良的充电性能、机械性能、钝化性能和化学稳定性能,但杂质氢的存在限制了它的应用.详细阐述了氮化硅薄中氢杂质的存在活动及其对薄膜性能的影响,并提出了降低氢含量的合理方法.

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