氢等离子体处理对类金刚石膜场发射性能的影响

新型炭材料, 2010, 25(4): 317-320.

氢等离子体处理对类金刚石膜场发射性能的影响

赵立新 ^1, , 彭鸿雁 ^2, , 陈玉强 ^3, , 罗玉杰 ^4, , 陈宝玲 ^5, , 徐闰 ^6, , 黄健 ^7, , 王林军 ^8, , 夏义本 ^9, , 金曾孙 ^10,

1.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012

2.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012;上海大学,材料科学与工程学院,上海,200072

3.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012

4.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012

5.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012

6.上海大学,材料科学与工程学院,上海,200072

7.上海大学,材料科学与工程学院,上海,200072

8.上海大学,材料科学与工程学院,上海,200072

9.上海大学,材料科学与工程学院,上海,200072

10.牡丹江师范学院,物理系,黑龙江,牡丹江,157012;吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130033

基金项目: 牡丹江市科技攻关项目(G2008G0037) 黑龙江省科技攻关项目(GC06A213)

关键词：类金刚石膜 , 氢等离子体处理 , 场发射

Effect of hydrogen plasma treatment on the field emission of diamond-like films deposited by high power excimer laser ablation

采用大功率、高重复频率、准分子激光溅射热解石墨靶制备了类金刚石膜,研究了直流辉光氢等离子体处理对类金刚石膜的场发射性能的影响.结果表明:氢等离子体处理后,类金刚石膜的场发射性能明显提高,其发射阈值电场由26 V/μm下降到19 V/μm.氢等离子体刻蚀除去了类金刚石膜生长表面的富含石墨的薄层,露出的新表面具有较低的功函数;膜表面的悬键被氢原子饱和,进一步降低了电子亲和势,改善了膜的场发射性能.

参考文献

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