欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

使用直流磁控溅射法,通过改变沉积压强在玻璃衬底上制备了TiO2薄膜.通过椭圆光谱法研究了TiO2薄膜的光学性能;利用场发射扫描电子显微镜、X射线衍射对薄膜的表面形貌和结构进行了表征.结果表明:压强的大小在磁控溅射法制备TiO2薄膜过程中能有效控制其晶粒尺寸、膜厚及薄膜的折射率.压强越大,晶粒尺寸越小,吸收边“蓝移”越明显;薄膜厚度随压强的增大先增加后减小;平均折射率随压强的增大呈下降趋势,消光系数在可见光波段的平均值趋于零.

参考文献

[1] Alexandrov P.;Todorov D.;Koprinarova J. .DIELECTRIC PROPERTIES OF TIO2-FILMS REACTIVELY SPUTTERED FROM TI IN AN RF MAGNETRON[J].Vacuum: Technology Applications & Ion Physics: The International Journal & Abstracting Service for Vacuum Science & Technology,1996(11):1333-1336.
[2] 于春杭,邵红红,许晓静.钛基材纳米化对TiO2薄膜力学性能影响研究[J].稀有金属材料与工程,2012(02):320-323.
[3] 张维,朱蕾,顾君嗣,崔晓莉.可见光下TiO2薄膜电极的光电性能研究[J].稀有金属材料与工程,2010(06):1013-1017.
[4] Biswas, A;Bhattacharyya, D;Barshilia, HC;Selvakumar, N;Rajam, KS .Spectroscopic ellipsometric characterization of TiAlN/TiAlON/Si3N4 tandem absorber for solar selective applications[J].Applied Surface Science,2008(6):1694-1699.
[5] Gao Xiao-Yong,Feng Hong-Liang,Ma Jiao-Min,Zhang Zeng-Yuan.Spectroscopic ellipsometric study of the optical properties of Ag2O film prepared by direct-current magnetron reactive sputtering[J].中国物理B(英文版),2010(09):291-296.
[6] 郭金玲,沈岳年,SHE Yue-nian.用Scherrer公式计算晶粒度应注意的几个问题[J].内蒙古师范大学学报(自然科学汉文版),2009(03):357-358.
[7] 肖循.纳米TiO2薄膜紫外-可见透射光谱研究[J].湖北民族学院学报(自然科学版),2005(03):246-248.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%