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In0.53Ga0.47As/InP(001)薄膜表面重构的研究

周海月 , 赵振 , 郭祥 , 魏文喆 , 王一 , 黄梦雅 , 罗子江 ,

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.18.013

通过扫描隧道显微镜(STM)以及反射式高能电子衍射(RHEED)对在不同As4等效束流压强(As4BEP)下生长的In0.53 Ga0.47 As薄膜表面重构进行研究.研究发现在两种As4 BEP条件下,样品表面重构都以(4×3)/(n×3)为主,并存在c(6×4)、β2(2×4)以及α2(2×4)...

关键词: STM , In0.53Ga0.47As薄膜 , As4BEP , 表面重构

不同应力下的InxGa1-xAs薄膜表面形貌

郭祥 , 王一 , 魏文喆 , 黄梦雅 , 赵振 , 王继红 , 胡明哲 ,

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2015.02.005

利用分子束外延技术,通过反射式高能电子衍射仪实时监控InGaAs薄膜生长状况,在InAs(001)基片上生长In0.86Ga0.14As,在GaAs(001)基片上生长In0.14 Ga0.86As(厚度均为20原子层)单晶薄膜.采用扫描隧道显微镜对原位退火后的InGaAs样品进行扫描,发现不同组分...

关键词: MBE , InGaAs , 表面形貌

RHEED实时监控下MBE生长不同In组分的InGaAs薄膜

罗子江 , 周勋 , 贺业全 , 何浩 , 郭祥 , 张毕禅 , 邓朝勇 ,

功能材料

利用分子束外延技术,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,固定Ga源温度、改变In源温度在GaAs(001)基片上外延生长了不同In组分(39%、29%、19%)的InGaAs薄膜。比较RHEED强度振荡以及RHEED衍射图像,发现随着In组分的增加In...

关键词: MBE , RHEED , STM , InGaAs薄膜

高In组分InGaAs薄膜的分子束外延生长及其表面分析

罗子江 , 周勋 , 郭祥 , 王继红 , 魏文喆 , 王一 ,

材料导报

采用分子束外延(MBE)方法,通过反射高能电子衍射(RH EED)强度振荡测算生长速率,利用RHEED衍射实时监控生长过程,在InAs(001)和InP(001)单晶衬底上生长高In组分的InGaAs薄膜,并通过扫描隧道显微镜(STM)对其表面形貌和表面重构进行了细致分析,STM图片证实采用该方法获...

关键词: InAs , InP , InGaAs , MBE/STM , 表面形貌

InGaAs/GaAs异质薄膜的MBE生长研究

罗子江 , 周勋 , 杨再荣 , 贺业全 , 何浩 , 邓朝勇 ,

功能材料

利用分子束外延技术,在GaAs(001)基片上外延InGaAs/GaAs异质薄膜,通过RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,采用RHEED强度振荡测量薄膜生长速率,确定薄膜中In/Ga的组分比,并提出控制InGaAs薄膜中In/Ga组分比的生长方法.根据RHEED图像,指出获得的InGaAs薄膜处...

关键词: MBE , RHEED , STM , InGaAs异质薄膜

GaAs(001)薄膜表面形貌相变过程

罗子江 , 周勋 , 王继红 , 郭祥 , 王一 , 魏文喆 ,

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.09.019

采用 STM 以及 RHEED 技术对于 GaAs (001)的表面形貌相变过程(有序平坦→无序平坦→粗糙)进行了深入研究。通过 GaAs (001)在不同 As BEP、不同温度的表面形貌相变过程的研究发现,As BEP和温度的变化是促使表面形貌相变发生的主要原因,高温引起原子重组致使表面重构的演...

关键词: STM , GaAs 薄膜 , 形貌相变 , 表面重构 , As BEP

在RHEED实时监控下GaAs晶体生长研究

罗子江 , 周勋 , 杨再荣 , 贺业全 , 何浩 , 邓朝勇 ,

功能材料

采用分子束外延技术,利用RHEED图像可研究GaAs表面重构方式和生长机制.报道了一种新型的分子束外延方法,在RHEED实时监控下,利用GaAs(001)基片同质外延GaAs.通过改变生长和退火的时间与温度(420、500、580℃),结合RHEED图像演变与GaAs表面平整度(粗糙化)的联系,得到...

关键词: MBE , RHEED图像 , 粗糙化 , EDS , GaAs表面重构

MBE生长GaAs(001)薄膜表面的Ostwald熟化过程研究

王继红 , 罗子江 , 周勋 , 郭祥 , 周清 , 刘珂 ,

功能材料

采用带有RHEED的MBE技术,利用RHEED图像演变实时监控薄膜生长状况,通过RHEED强度振荡测算薄膜生长速率,在GaAs (001)基片上同质外延GaAs薄膜.利用STM对MBE生长的GaAs薄膜表面的熟化过程进行了深入研究.研究发现,随着退火时间的延长,刚完成生长的GaAs表面从具有大量岛和...

关键词: GaAs薄膜 , MBE , RHEED , STM , 熟化

GaAs(001)表面重构

罗子江 , 周勋 , 王继红 , 郭祥 ,

材料导报

GaAs的高迁移率与其表面重构和表面形貌有密切关联,对于GaAs表面重构的研究一直是研究低维半导体的重点和难点.重点回顾了几十年来研究者们对于GaAs(001)表面重构的研究成果,结合所在实验室最近的实验数据,对GaAs(001)表面重构的相关研究成果进行了汇总和遴选,重点讲述了在实际应用中常用的几...

关键词: RHEED , STM , GaAs(001) , 表面重构

InAs(001)表面金属化的转变

尚林涛 , 周勋 , 罗子江 , 张毕禅 , 郭祥 ,

材料导报

论述了利用分子束外延方法在InAs(001)基片上生长InAs时,样品表面由富As的(2×4)向富In的(4×2)转变的现象.通过控制生长参数生长出了较好的富As(2×4)表面.在As压不足的情况下,轻微的提升样品衬底温度,样品表面逐渐转向富In表面的(4×2)结构,呈现出(3×1)混合相.通过实验...

关键词: RHEED , MBE , STM , InAs表面重构 , 模拟

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