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制备工艺对P型ZnO薄膜微观结构和电学特性的影响

, 陈毅湛 , 朱慧群 , 黎扬钢 , 晓贵 , 杨柳 , 黄鑫钿 , 齐德备 , 谭军

人工晶体学报

本文报道溅射工艺、退火工艺和冷却方式对磷扩散法制备的P型ZnO薄膜的微观结构和电学特性的影响的实验研究.研究结果表明,ZnO薄膜的表面形貌、结晶度、内应力以及电学特性均与制备工艺条件有密切的关系.文章对这些关系的机理做了探讨和分析.

关键词: ZnO薄膜 , 工艺条件 , 微观结构 , 电学特性

磷扩散法制备P型ZnO薄膜

, 朱慧群 , 曾庆光 , 林民生 , 冯文胜 , 梁毅斌 , 梁满堂 , 梁达荣

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.031

应用射频反应磁控溅射的方法,将ZnO薄膜沉积于高磷掺杂的n+型Si衬底上.在沉积和后退火过程中,磷向ZnO薄膜扩散并被激活,使ZnO薄膜由n型转化为p型,从而形成p型ZnO薄膜.X射线衍射分析(XRD)证明了所制备的ZnO薄膜都是高c轴取向的六角纤锌矿结构的薄膜.电学I-V关系曲线的整流特性和空穴浓度≥1.78×1018 /cm3的霍耳效应测试结果证明了p型ZnO薄膜的形成.

关键词: 磷扩散 , p型ZnO薄膜 , 磁控溅射 , 异质ZnO p-n结

静电喷雾法制备壳聚糖/康普载药微球

马骊娜 , 方大为 , 王克敏 , 聂俊 , 马贵平

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.06.023

本研究采用静电喷雾法,以壳聚糖为基质材料,康普为模型药物制备微球.实验中采用AcOH/H2O和AcOH/H2O/EtOH两种溶剂,分析了微球形貌和粒径分布的影响因素,并且对CS-CA4微球的缓释性能进行了测定.结果表明,壳聚糖浓度、溶剂配比及乙醇和康普的加入会使壳聚糖微球呈球状、中间塌陷的类球状、棒状等不同形貌,微球粒径存在较大差异;通过AcOH/H2O/EtOH复合溶剂将疏水性药物康普载入壳聚糖微球,制备出的壳聚糖/康普载药微球分散性好,粒径分布均匀,平均粒径仅为0.27μm;使用戊二醛蒸汽交联48h的微球缓释效果明显.

关键词: 静电喷雾 , 壳聚糖 , 康普 , 微球

衬底离子束表面氮化对ZnO薄膜性质的影响

朱慧群 , , 姚若河 , 吴桐庆

材料导报

采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响.在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3:1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质.

关键词: 射频磁控溅射 , ZnO薄膜 , 离子束轰击 , 衬底表面氮化

磷扩散法制备高掺磷p型ZnO薄膜的磁控溅射工艺的探索

, 曾庆光 , 陈毅湛 , 朱慧群 , 晓贵 , 齐德备

人工晶体学报

在前期通过n+-Si衬底中的磷向沉积于其上面的ZnO薄膜的扩散制备高掺磷p型ZnO薄膜的研究基础上,探索了较有普遍应用意义的扩散法制备p型ZnO薄膜的磁控溅射工艺.结果表明,当磁控溅射的氧氩质量流量比与衬底温度满足特定的低阶指数函数的匹配关系时,所制备的ZnO薄膜为p型,而且薄膜中磷原子的深度分布是均匀的;另外,这种薄膜的厚度随着氧氩流量比的增加而减小,而薄膜中氧锌原子浓度比都大于1,比值大小与氧氩质量流量比和衬底温度有关.

关键词: p型ZnO薄膜 , 磷扩散法 , 磁控溅射工艺

p-ZnO薄膜及其异质结的光电性质

朱慧群 , 李毅 , , 王忆 , 黄洁芳 , 张锐华

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法,在不同的Ar∶O2条件下,以高掺磷n型Si衬底为磷掺杂源制备了p型ZnO薄膜和p-ZnO/n-Si异质结.对ZnO∶P薄膜进行了光致发光谱(PL)、霍尔参数、Ⅰ-Ⅴ特性、扫描电镜(SEM)和X射线衍射谱(XRD)等测试.结果表明,获得的ZnO∶P薄膜沿(0002)晶面高取向生长,以3.33 eV近带边紫外发光为主,伴有2.69 eV附近的深能级绿色发光峰,空穴浓度为8.982 × 1017/cm3,空穴迁移率为9.595 cm2/V·s,p-ZnO/n-Si异质结I-V整流特性明显,表明ZnO∶P薄膜具有p型导电特性.

关键词: 磁控溅射 , p型ZnO薄膜 , 磷掺杂 , 异质结

掺铒硅基材料发光的研究进展

材料导报

对近几年来几种掺铒硅基材料的发光特性及光致发光和电致发光的机理的研究进展作综合介绍,并对掺铒硅基材料发光今后的研究发展提出自己的一些看法.

关键词: 硅基发光 , , 激子 , 能量转移

分层沉积GaAs/SiO2纳米薄膜的结构和吸收光谱

朱慧群 , , 王忆 , 吴桐庆

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.044

应用射频磁控溅射方法分别在抛光硅片和石英玻璃片上分层沉积了GaAs/SiO2纳米薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)及吸收光谱的测试,发现衬底温度、退火、氢掺杂等制备工艺对分层沉积的GaAs/SiO2纳米薄膜的微观结构和光学性质有明显的影响.本文对相关机理作了探讨.

关键词: 射频磁控溅射 , GaAs/SiO2纳米薄膜 , 氢掺杂 , 吸收光谱

制备工艺对InP/SiO2纳米膜性能的影响

, 王浩 , 佘卫龙 , 王宁娟 , 于英敏

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.04.006

应用射频磁控共溅射方法,分别在InP薄片与磁控靶底座紧接触(方法1)和InP薄片放在石英靶表面(方法2)两种情况下制备了 InP/SiO2复合薄膜,并分别在高纯H2中和在P气氛中对薄膜进行了热处理X射线光电子能谱表明,对于用方法1制备的复合膜,其SiO2中的氧缺位、P和 In的氧化物的含量都比用方法2的少得多X射线和卢瑟福背散射实验结果表明,在P气氛下的高温 (520℃)热处理,可以彻底地消除这些氧缺位和氧化物而得到符合化学计量的InP/SiO2纳米颗粒复合薄膜复合薄膜的光致发光特性与制备工艺密切相关较详细地阐述了俘获态对光致发光影响的机理

关键词: InP/SiO2纳米复合膜 , 化学组分 , 微观结构 , 光致发光

射频磁控溅射法制备TiO2薄膜的拉曼光谱

赵丽特 , 叶勤 ,

材料导报

采用射频磁控溅射法制备了纳米TiO2薄膜,并应用显微拉曼光谱和原子力显微镜对薄膜进行了检测.通过拉曼光谱研究,一方面有力地揭示出TiO2薄膜的晶体结构,另一方面对薄膜的生长方式提供了线索.

关键词: TiO2 , 薄膜 , 磁控溅射 , 拉曼光谱 , 晶体结构 , 生长方式

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