乔治
,
解新建
,
刘辉
,
梁李敏
,
郝秋艳
,
刘彩池
人工晶体学报
采用RF-PECVD法在低温低功率密度下制备了p型nc-Si∶H薄膜,并系统地研究了硼掺杂对薄膜微结构及光电性能的影响.结果表明:由于“硼掺杂效应”,随着掺硼比的增大,nc-Si∶H薄膜的晶化率逐渐降低,晶粒尺寸减小,薄膜的择优取向由[111]变为[220];光学带隙逐渐减小,电导率则先升后降;本实验中薄膜的最优掺杂比为0.3％.以优化后的p型nc-Si∶H薄膜做窗口层,SHJ太阳电池的性能得到明显改善,获得了效率为14.1％的电池.
关键词:
RF-PECVD
,
nc-Si∶H薄膜
,
硼掺杂
,
SHJ太阳能电池
温迪
,
雷青松
,
乔治
,
高美伶
,
薛俊明
,
张雯
人工晶体学报
采用中频脉冲磁控溅射工艺制备ITO薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对薄膜性能的影响.通过对二者的优化,获得了方阻为2.99Ω/□,电阻率为1.76×10-4Ω·cm,可见光波段(400～800 nm)平均透过率为82.3％的ITO薄膜.将优化后的薄膜用于电池上,制出了转化效率为14.04％的HIT太阳能电池.
关键词:
ITO薄膜
,
衬底温度
,
溅射功率
,
HIT太阳能电池
郝秋艳
,
乔治
,
张建峰
,
任丙彦
,
李养贤
,
刘彩池
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.011
本文利用快速退火对 8″直拉硅单晶片中的流动图形缺陷(FPDs)进行了研究.首先用Secco腐蚀液腐蚀了大直径直拉硅片,利用光学显微镜观察了FPDs的宏观分布,并用原子力显微镜(AFM)对原生FPDs的微观形貌进行观察,证明了 FPDs是一种空位型原生缺陷,然后采用了高温快速热处理,分别在N2、N2/O2(3%)、Ar三种气氛中对原生直拉单晶硅片进行了处理.对比退火前后FPDs密度的变化,分析了高温快速热处理对直拉硅单晶片中FPDs的影响,实验表明1200℃快速热处理180s可以显著降低硅片表面的FPDs.
关键词:
CZSi
,
原生微缺陷
,
流动图形缺陷
,
原子力显微镜
,
快速退火
崔建坡
,
张变芳
,
王振彪
,
李同锴
,
乔治
机械工程材料
用化学共沉淀法制备了ZnFexCr2-xO4纳米粉体,用XRD分析了六种不同试样的相结构,计算了各试样的晶格常数、粒径及密度;用TG/DTA、FTIR和SEM等分析手段研究了粉体的形成过程及其形貌与粒径.结果表明:六种试样均为尖晶石结构,且随其中铁含量的增加,晶格发生膨胀,晶粒变小,密度降低.
关键词:
ZnFexCr2-xO4纳米粉体
,
尖晶石
,
化学共沉淀
