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掺铈硅酸钆闪烁晶体的研究进展与发展方向

, 赵广军 , 何晓 , 曾雄辉 , 庞辉勇 , 张连瀚 , 徐军

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.01.030

本文综述了铈离子掺质硅酸钆(Ce:Gd2SiO5)闪烁晶体的结构、闪烁性能、闪烁机理及晶体生长的研究现状,重点讨论了Ce:GSO闪烁晶体生长的研究进展;提出了硅酸钆闪烁晶体未来研究发展的几个方向为:大尺寸晶体的生长、高光输出的研究、混合型硅酸钆晶体的研究等.

关键词: Ce:Gd2SiO5 , 闪烁晶体 , 晶体生长 , 光学性能

高温闪烁晶体GSO:Ce的生长及其光谱性质

, 赵广军 , 曾雄辉 , 何晓 , 张连翰 , 夏长泰 , 徐军

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.025

本文用中频感应提拉法生长出尺寸为φ30mm×150mm,质量好的GSO:Ce晶体.并对晶体进行XRD测试和差热分析,初步分析引起晶体开裂的原因,最后测试了晶体室温下的吸收和荧光光谱等,GSO:Ce晶体发射峰为433nm,晶体在大于400nm范围其光透过率大于80%.

关键词: 硅酸钆晶体 , 闪烁晶体 , 提拉法生长 , 开裂 , 荧光光谱

显微成像荧光屏用无机闪烁单晶薄膜的研究进展

庞辉勇 , 赵广军 , , 曾雄辉 , 夏长泰 , 周圣明 , 徐军

无机材料学报

随着第三代同步辐射源的出现,由荧光屏和CCD耦合组成的、具有亚微米级空间分 辨率、快速在线成像功能的探测器在医疗、安检、工业、科研等领域将会得到广泛应用.本文主 要综述了成像荧光屏用材料的概况和发展趋势,重点阐述了闪烁单晶薄膜的研究及发展情况.

关键词: 亚微米成像 , fluorescent screens , inorganic scintillation single crystal films , liquid phase epitaxy

显微成像荧光屏用无机闪烁单晶薄膜的研究进展

庞辉勇 , 赵广军 , , 曾雄辉 , 夏长泰 , 周圣明 , 徐军

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2005.02.002

随着第三代同步辐射源的出现,由荧光屏和CCD耦合组成的、具有亚微米级空间分辨率、快速在线成像功能的探测器在医疗、安检、工业、科研等领域将会得到广泛应用.本文主要综述了成像荧光屏用材料的概况和发展趋势,重点阐述了闪烁单晶薄膜的研究及发展情况.

关键词: 亚微米成像 , 荧光屏 , 无机闪烁单晶薄膜 , 液相外延

温梯法Ce:YAG闪烁晶体的宏观缺陷观察

何晓 , 赵广军 , 曾雄辉 , , 周圣明 , 徐军

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.02.020

采用温度梯度法(TGT)成功生长了直径为76mm高光学质量的Ce:YAG高温闪烁晶体,采用偏光显微镜研究了Ce:YAG闪烁晶体中的主要宏观缺陷,观察到了生长条纹、侧心、气泡、包裹物以及应力双折射等宏观缺陷.实验结果表明,晶体中的气泡、包裹物以及应力双折射等宏观缺陷主要集中在晶体边缘部分,因此温梯法可以获得高质量的Ce:YAG闪烁晶体.

关键词: 无机闪烁晶体 , Ce:YAG , 温度梯度法 , 宏观缺陷

硅酸钇晶体的生长、腐蚀形貌和光谱性能研究

庞辉勇 , 赵广军 , , 朱江 , 何晓 , 徐军

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.009

本文采用中频感应提拉法成功生长了未掺杂的Y2SiO5(YSO)晶体,经过定向、切割、抛光后得到样品.经过腐蚀后,利用大视场显微镜和扫描电镜在样品表面上观察到了菱形和四边形的位错蚀坑、小角晶界和包裹物等缺陷;测试了经过氢气、空气退火前后,辐照前后YSO晶体的透过谱,结果表明:YSO晶体的吸收边大约在202nm,氢气退火后在200~300nm波段透过率增加,空气退火后透过率显著降低;辐照后,氢气退火的样品在200~500nm波段透过率显著降低.

关键词: YSO晶体 , 辐照 , 光谱 , 位错蚀坑 , 小角晶界

罗丹B染料掺杂孔二氧化硅的研究进展

刘瑜 , 王晓钟 , 陈伟 , 黄璐 , 李祥珍

材料科学与工程学报

孔二氧化硅掺杂染料后在传感器、荧光探针、药物输送、以及非线性光学材料特别是激光材料耐光性等领域具有广阔的应用前景并已成为当前研究的热点.本文综述了近十年来以孔二氧化硅为主体掺杂荧光染料罗丹B的研究进展,详细讨论了染料在孔二氧化硅中的形成机理、聚集状态以及影响规律.最后,对罗丹B染料掺杂孔二氧化硅的研究进行了展望.

关键词: 罗丹 B , 孔二氧化硅 , 掺杂 , 荧光染料

水披覆转工艺

王绪建

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.04.007

介绍了水披覆转工艺流程.指出了前处理、喷底漆、烘干、转、补膜和喷面漆等各工艺注意事项.对影响转膜质量的各种因素包括活化剂、界面剂、转温度等进行了讨论.

关键词: 水披覆转 , , 工艺流程 , 活化剂

罗丹6G在孔二氧化硅中的封装及应用

陈伟 , 王晓钟 , 黄璐 , 刘瑜

中国材料进展 doi:10.7502/j.issn.1674-3962.2015.06.08

孔材料由于其孑孔径、孔道结构、骨架组成、比表面积和孔体积等参数的灵活可调已在催化、吸附及分离等领域得到了广泛的应用.同时,其多样化可调的宏观形貌与其内在结构特征的结合,也使它作为一类新的主体材料在各种客体分子的封装及相关性能的调控等领域近年来受到了高度重视.而且,孔二氧化硅掺杂染料后,不仅可有效提高染料的封装浓度,还可避免或减少由于分子聚集所引起的荧光淬灭,进而显著提高材料的荧光性能,这类新型主客体材料在固体传感器、光学波导、荧光探针、控制释放、能量传递及固体染料激光器等研制领域具有广泛的应用前景.以激光染料罗丹6G(简记为Rh6G)为代表,概述了近年来Rh6G在孔二氧化硅中的封装及应用研究进展,并对Rh6G-孔二氧化硅复合材料研究中存在的问题和发展方向进行了探讨.

关键词: 罗丹6G , 孔二氧化硅 , 掺杂 , 荧光染料

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