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化学镀Ni-P镀层晶化过程研究

毕虎才 , 卫英慧 , 杨海燕 , 侯利锋 , , 郭耀文 , 胡兰青 , 许并社

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2007.04.039

化学镀Ni-P镀层的显微组织对其服役性能有重要影响.通过SEM、TEM、XRD和DTA等分析手段,研究了压铸镁合金表面Ni-P镀层的晶化过程.结果表明,初始化学镀层不仅有非晶,还有亚稳态纳米晶;镀层的初始晶化温度大约为300 ℃,450 ℃晶化过程完成;升温过程中的原子扩散和纳米晶的长大导致有新的亚稳态相析出和转变;有序畴和析出物一起长大最终产生晶界.

关键词: 镁合金 , 化学镀 , 镀层 , 晶化

热处理温度对AZ91D化学镀Ni-P镀层性能的影响

毕虎才 , 卫英慧 , 侯利锋 , , 胡兰青 , 于斌 , 许并社

兵器材料科学与工程 doi:10.3969/j.issn.1004-244X.2005.06.004

利用F106标尺仪、HVS-1000型显微硬度计和PS-16A型电化学测量系统,研究了镁合金AZ91D化学镀Ni-P的结合强度、镀层显微硬度和极化性能.结果表明,镁合金化学镀镍层的P含量为6.68%(质量分数),与基体结合良好.随着从200℃到450℃退火热处理温度的提高,结合力呈现出先减小后快速增大,然后又减小的趋势,在350℃附近可达最大结合强度3.7 MPa;随着热处理温度的提高镀层硬度先稍有下降而后持续提高,到400℃附近达到最大值825HV0.1/20,随后开始下降;低于200℃的低温退火处理过程中,镀层的腐蚀电位Ecorr有所提高,高于200℃的退火过程中,腐蚀电位Ecorr和腐蚀电流整体有下降的趋势.

关键词: 镁合金 , 化学镀 , 结合力 , 硬度 , 极化

压铸镁合金AZ91D手机内构件的Ni-P化学镀

杨海燕 , 卫英慧 , 毕虎才 , 侯利锋 , 郭耀文 , , 许并社

稀有金属材料与工程

采用直接化学镀镍的方法,得到了光亮且均匀、致密的Ni-P镀层.在分析镀层形貌、化学成分和组织结构的基础上,测定了镀层厚度、硬度、结合力、阻抗及耐蚀性.结果表明:改进后的化学镀镍层与基体结合良好;硬度达479×9.8 MPa,400℃热处理后可提高至826×9.8 MPa;阻抗为0.4 Ω,且随热处理温度的提高呈下降趋势;镀层耐腐蚀性能良好,热处理后耐蚀性有所下降.

关键词: 镁合金 , 内构件 , 化学镀镍磷 , 耐蚀性

成核层温度对非掺杂GaN外延薄膜结晶质量的影响

孙成真 , 贾志刚 , 尚林 , 孙佩 , , 张华 , 李天保

人工晶体学报

利用金属有机化学气相沉积系统(MOCVD),在蓝宝石的(0001)面采用不同的成核层生长温度,通过两步法获得不同质量的GaN外延薄膜.利用HALL测试仪,高分辨X射线衍射仪(HRXRD),原子力显微镜(AFM)和光致发光光谱仪(PL)对GaN薄膜的表面形貌,位错密度,光学性能等进行表征,研究不同的成核温度对GaN外延薄膜晶体质量的影响.结果表明,在成核层生长温度为650℃时,所得到的GaN外延薄膜表面粗糙度和位错密度均达到最低,并且同时具有最高的带边发光峰强度,最高的载流子迁移率以及最低的载流子浓度.过低或过高的成核温度都会导致GaN外延层的晶体质量和光电性能变差.

关键词: GaN , 金属有机化学气相沉积 , 成核层 , 生长温度

CrAlN薄膜高温抗氧化性的研究

, 王社斌 , 尹小定 , 许并社

稀有金属材料与工程

在900℃,循环氧化20 h的试验条件下研究了偏压对CrAlN薄膜抗氧化性的影响.用X射线衍射仪测定薄膜氧化前后的相结构,用场发射扫描电镜观察薄膜氧化前后的表面形貌,并每隔4h测量其氧化增重.结果表明.随着偏压的增加,CrAlN薄膜中的铝含量增加,薄膜的抗氧化性增强.其主要原因是:1)随着铝含量的增加,薄膜表面形成了更多的铬铝混合氧化物,它们充当了氧的扩散阻挡层,减小了高温条件下氧向薄膜内的扩散能力;2)加入的铝与氮以共价键结合,提高了薄膜的热稳定性.

关键词: CrAlN薄膜 , 抗氧化性 , 铝含量

压铸镁合金化学镀Ni-P的沉积过程

毕虎才 , 卫英慧 , 侯利锋 , , 胡兰青 , 许并社

稀有金属材料与工程

通过扫描电镜和GDA辉光放电光谱分析仪等手段,研究了压铸镁合金化学镀Ni-P的沉积过程,结果表明镁合金化学镀的前处理使基材表面呈现孔洞结构,活化形成比较平整的疏松网孔状MgF2和AlF3层;镁合金化学镀Ni-P的初始沉积过程,首先是Ni的还原析出,并不含P;随着Ni形核数量的增多和长大,有自催化能力的Ni层产生,镍磷共沉积开始;镀层中存在铬化物、氟化物与镀液成分以及Ni的混杂层.

关键词: 镁合金 , 化学镀镍磷 , 沉积

洋葱皮敏化ZnO太阳能电池的光电性能研究

孟甲 , , 贾伟 , 许并社

人工晶体学报

采用溶胶-凝胶法制备了纳米ZnO薄膜,通过Bruker D8 ADVANCE扫描电子显微镜和D/max-ⅢB型X-射线衍射仪对产物的微观形貌和晶相构成进行了分析,确定了适宜的凝胶温度为50℃,适宜的退火温度为500℃,在该制备条件下,纳米ZnO的颗粒直径和分散性适于制作太阳能电池.利用洋葱皮色素对ZnO纳米膜进行了染色敏化,通过对太阳能电池的光电性能分析,确定了适宜的洋葱皮和无水乙醇的用量为m洋葱皮∶V无水乙醇=1∶4,在此条件下,ZnO太阳能电池的的开路电压为623 mV,短路电流密度为4.15 mA/cm2,最大输出功率Pmax为1.855 mW,光电转化效率为2.06%,填充因子为0.72.对此光电池的稳定性进行了研究,结果表明在一个月的周期内,最大输出功率Pmax从1.855 mW下降到1.3 mW,即使在一个月后,其光电转化效率也达到了1.44%.

关键词: 纳米ZnO , 太阳能电池 , 洋葱皮 , 敏化

氮在H13钢中的扩散行为

, 王社斌 , 侯文义 , 许并社

机械工程材料 doi:10.3969/j.issn.1000-3738.2007.06.021

对H13钢(4Cr5MoSiV1)在不同温度下进行辉光离子渗氮试验,对渗氮后试样的硬度与渗氮前后试样的质量进行了测量.计算出氮在其中的扩散激活能为131.48 kJ/mol,793 K时氮在其中的扩散系数为2.34×10-12 m2/s.

关键词: 4Cr5MoSiV1 , 渗氮 , 激活能 , 扩散系数

H13钢氮化前后表面磁控溅射CrAlN薄膜的摩擦磨损性能

尹小定 , 王社斌 , , 田林海 , 许并社

机械工程材料

为了提高H13钢的表面耐磨性能,用直流磁控溅射法在氮化与未氮化的H13钢表面沉积CrAlN薄膜,并对处理前后的摩擦磨损性能进行了比较;用扫描电镜观察薄膜形貌,并测其厚度;测量了随炉硅片的薄膜显微硬度;用摩擦磨损试验机测试了在室温和600℃条件下薄膜的摩擦磨损性能.结果表明:薄膜平均厚度为4.8 μm,硬度为23.7 GPa;室温条件下材料的表面摩擦因数为0.60~0.65,600℃条件下摩擦因数为0.61~0.96;CrAlN/氮化H13钢和CrAlN/H13钢在室温摩擦时的耐磨性分别是H13钢的1.9倍和1.7倍,在600℃条件下耐磨性分别是H13钢的1.25倍和7倍.

关键词: H13钢 , 磁控溅射 , CrAlN薄膜 , 摩擦磨损

直流磁控溅射Cr(Al)N薄膜的结构与性能比较研究

张诤 , 尹小定 , 王社斌 ,

材料导报

采用相同的基底偏压和靶基距离,以N2流量和靶材溅射功率为变量,以热作模具用钢H13和Si片为基底,用直流磁控溅射的方法沉积了CrN和CrAlN膜层.对这2种膜层用SEM测其表面形貌,用X射线衍射测其膜层结构,用M-400-H1测其表面显微硬度,用WS-97划痕仪测其膜层/基体之间的结合强度,用UMT-2摩擦磨损试验机测其表面摩擦磨损性能.在分析溅射变量对2种膜层的影响趋势的同时,也分析了Al元素加入后所获得的CrAlN与CrN在结构、力学性能(硬度和膜/基粘结强度)和摩擦性能上的变化趋势.

关键词: CrN膜层 , CrAlN膜层 , 磁控溅射 , 粘结强度 , 磨损

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