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运用投影壳模型研究了正常形变丰中子核同位素102,104Nb的低能级能谱，并指定了它的准粒子组态，理论计算所得到的能谱曲线与实验给出的能谱曲线非常一致，说明了投影壳模型对研究重核低能级谱非常有效。

声子色散对量子点中弱耦合极化子光学声子平均数的影响

连铸 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2016.01.016

采用幺正变换和线性组合算符相结合的方法,研究声子色散对抛物量子点中弱耦合极化子电子周围光学声子平均数的影响.计及纵光学(LO)声子抛物色散,导出了量子点中极化子的基态能量和电子周围光学声子平均数随声子色散系数的变化关系.数值计算结果表明基态能量随声子色散系数的增大而减小,电子周围光学声子平均数随声子色散系数的增大而增大.

关键词: 光电子学 , 抛物量子点 , 线性组合算符 , 极化子 , 声子色散

PMI 泡沫夹层结构整流罩冯卡门锥段成型技术研究

赵锐霞 , 尹亮 , 潘玲英

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2012.04.014

对PMI泡沫夹层结构整流罩冯卡门锥段成型技术进行了研究,通过对玻璃钢面板及其泡沫夹层结构性能、面板成型、泡沫热成形、泡沫拼接、玻璃钢泡沫夹层结构成型及无损检测等技术研究,确定了玻璃钢外面板、预先固化,然后与泡沫等复合组装,最后铺覆内面板,整体进罐固化的成型工艺.结果表明,玻璃钢面板纵、横向拉伸强度为602、593MPa,模量为26.0、27.2 GPa,满足设计强度≥350MPa、模量≥25GPa的要求；玻璃钢/PMI泡沫夹层结构泡沫密度为(110±10)kg/m3,厚度28mm,纵、横向侧压强度为32.9、30.5MPa、模量为2.31、2.38GPa,满足设计指标侧压强度≥25MPa、模量≥2.0GPa的要求,采用玻璃钢/PMI 泡沫夹层结构分步固化成型工艺研制的首件新型号整流罩冯卡门锥段,满足设计使用要求.

关键词: 泡沫夹层结构 , 冯卡门锥段 , 成型技术

良渚文化玉器的稀土元素特征及其考古学意义

程军 , 杨学明 , 杨晓勇 , 王昌燧 , 王巨宽

稀土 doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2000.04.001

本文利用ICP-MS对新石器时代良渚文化瑶山遗址出土的古玉器进行了稀土元素分析,并与产于新疆和阗玉石矿的软玉进行了对比.结果表明,瑶山古玉器的稀土元素配分型式、特征比值均明显不同于和阗玉,说明良渚文化玉器的玉石应选自当地,这与李约瑟[1]教授认为中国古玉器都源于新疆和阗的论点不同.

关键词: 良渚玉器 , ICP-MS , 稀土元素(REE) , 产地分析

磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺良率的影响

刘晓伟 , 郭会斌 , 李梁梁 , 郭总杰 , 郝昭慧

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0548

纯铝薄膜被广泛用作TFT LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的良率有较大影响.本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对不同温度下沉积的纯铝薄膜的小丘生长情况进行了研究.实验结果表明:纯铝成膜温度提高,薄膜的晶粒尺寸增大,退火后产生小丘的密度和尺寸明显降低,温度应力曲线中屈服点温度也相应提高.量产中适当提高成膜温度,可以有效抑制小丘的发生,提高TFT阵列工艺的量产良率.

关键词: 薄膜晶体管阵列工艺 , 磁控溅射 , 纯铝薄膜 , 小丘 , 量产良率

冯春：勤恳为师路，执着科研心

吴钰重

金属世界 doi:10.3969/j.issn.1000-6826.2015.05.01

关键词:

纳米银粒子/有机溶剂的界面作用、分散性及光学性能

曾戎 , 容敏智 , 章明秋 , 梁海春 , 曾汉民

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.05.005

用微乳液法制备了不同粒径的表面改性的纳米银粒子,并用ESR、TEM和紫外/可见吸收光谱研究了改性纳米银粒子/有机溶剂体系的界面作用、分散性和光学性能.结果表明:改性的纳米银粒子有一系列表面顺磁局域态,其ESR谱参数与粒径的关系不符合Kawabata理论预测;氯仿与粒子有强烈的相互作用,粒子越小作用越强,且越易分散;氯仿作为粒子的良分散剂和高分子的良溶剂,可用于溶液共混工艺制备纳米银/高聚物复合材料.

关键词: 纳米银粒子 , 有机溶剂 , 界面作用 , 分散性

有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响

李田生 , 谢振宇 , 李婧 , 阎长江 , 徐少颖 , 陈旭 , 闵泰烨

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0720

TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源层刻蚀工艺所导致的,并有针对性地进行了试验设计,分别考察了有源层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果,根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不良问题,从而将产品的良率提升了3％～4％,而电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、迁移率)和正常条件相比没有异常,从而获得了最终完美的解决该不良的方案,提高了产品品质.

关键词: 有源层 , 刻蚀 , 黑点