周雅
,
许海东
,
刘佳慧
,
谢春英
,
文庆杰
材料保护
脱漆剂脱漆速度的快慢影响其使用推广,影响脱漆速度的因素既有脱漆剂本身,也有使用环境或基体材料等条件.讨论了脱漆剂的主要成分、工作温度以及经不同转化膜处理的金属基材等因素对脱漆剂脱漆速度的影响.结果表明,作为脱漆剂的主溶剂只有与带有羟基、胺基等活性官能团的溶剂复配使用,脱漆速度才能明显提高;加入促进剂可以提高脱漆速度,能够脱除一些强耐腐蚀性的漆膜;铝基氧化膜上的漆膜比铁基转化膜上的漆膜更容易脱除.本研究结果为脱漆剂的应用提供了依据.
关键词:
脱漆剂
,
脱漆速度
,
影响因素
,
活性官能团
,
转化膜
周雅
,
刘佳慧
,
江溢民
,
周佳
材料保护
为了研究影响硅溶胶一次成膜厚度的因素,以正硅酸乙酯为前驱体,与含有C=C双键的烷氧基硅(KH-570)共同水解,制备出了改性硅溶胶,在薄玻璃片上采用提拉法制备了二氧化硅(SiO2)膜,研究了反应温度、时间及增稠剂LZ-09对SiO2膜层性能及厚度的影响.结果表明:随反应温度增加,膜层厚度也增加,当温度为40℃时,干燥后的膜层不会出现开裂、堆积现象;随反应时间延长,膜厚也增加,当反应时间为2h时,膜层性能最佳;增稠剂的使用能明显提高膜层厚度,当硅溶胶中加入2%(体积分数)增稠剂时,一次性膜厚达到(10±5)μm.
关键词:
二氧化硅溶胶
,
溶胶-凝胶
,
成膜厚度
,
性能
,
增稠剂
,
反应温度
,
反应时间
周雅
,
周志文
,
刘佳慧
材料保护
为了改善硅溶胶膜层的开裂性，使用甲基三氧甲基硅烷和KH-5702种硅烷偶联剂对硅溶胶正硅酸乙酯进行改性。比较了2种偶联剂对硅溶胶膜层的影响，应用金相显微观察、傅立叶红外光谱（FT-IR）、扫描电镜观察等系统研究了偶联剂KH-570对硅溶胶及其膜层的改性效果。结果表明：2种硅烷偶联剂都可以明显减少膜层的裂纹，使其表面更加平整；在同样的用量下，偶联剂KH-570对减少涂层表面裂纹的效果更加明显；加入KH．570偶联剂的硅溶胶体系内由于生成了有机．无机杂化的网络结构而有效地减缓了膜层开裂性，提高了其耐蚀性能。
关键词:
硅溶胶正硅酸乙酯
,
改性
,
偶联剂
,
KH-570
,
开裂性
,
耐蚀性
,
有机．无机杂化
,
网络结构
赵肇雄
,
刘勇
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2009.06.001
利用Richarda-Wolf矢量衍射积分公式,获得矢量偏振贝塞耳-高斯光束经具有初级慧差的高数值孔径系统聚焦后的三维光场复振幅函数,模拟了不同慧差系数下聚焦光场的纵向分布,以及焦平面和光轴上的光强.研究表明,初级慧差的存在导致矢量偏振贝塞耳-高斯光束的会聚光场发生偏移和变形,焦平面光强的分布和光轴上的光强峰值都受初级慧差和入射光偏振态的共同影响,偏振态和初级慧差不影响聚焦光场在光轴上的对称分布.
关键词:
物理光学
,
贝塞耳-高斯光束
,
Richards-Wolf矢量衍射积分
,
径向偏振
,
方位角偏振
,
慧差
吴均
,
张道明
,
孙慧珍
,
王开军
腐蚀学报（英文）
土壤腐蚀环境因素的原位连续动态检测(摘要)吴均,张道明,孙慧珍,王开军(中国科学院南京土壤研究所,南京210008)本文简要介绍了土壤电阻率、土壤氧化还原电位、土壤电位梯度、土壤盐分浓度、土壤氯离子浓度、土壤温度和土壤水分七项土壤腐蚀环境因素的原位连续动态检测回土壤温度的原位连续测试对一定深度、尤其是地厂构件埋设深度的土壤温度进行定点连续测试,以积累该深度土壤温度的季节性变化数据采用我所研制的多通道数字式温....
关键词:
谭维翰
,
赵超樱
,
郭奇志
,
刘仁红
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2004.02.004
本文推广了几何光学近轴光线传输的ABCD定理,使之适用于远离光轴的空间光线的传输,无论光学系统是旋转对称的还是非旋转对称的.又注意到经典力学中的粒子运动也存在类似的ABCD定理.进一步研究发现在这宏观的定理背后的物理含义,即允许存在另一个更为普遍的规律"测不准关系"的可能性.此外应用推广的ABCD定理,可导出推广的含ABCD的衍射积分定理,用角程函的导数来表示.以此进行含初级(赛德耳)象差的衍射积分计算是方便的.文中给出含球差与含慧差的解析结果,及仅含球差时的数值计算.
关键词:
光学ABCD定理的普适性
,
ABCD定理与"测不准关系"
,
衍射积分运算
