王宽
,
刘敬成
,
刘仁
,
穆启道
,
郑祥飞
,
纪昌炜
,
刘晓亚
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2016.02.123
随着微电子工业的蓬勃发展,光刻技术向着更高分辨率的方向迈进,运用底部抗反射涂层有效消除光刻技术中的驻波效应、凹缺效应,提高关键尺寸均一性和图案分辨率,引起了广大研究者的关注.本文简要介绍了光刻胶和光刻技术,底部抗反射涂层的分类、基本原理、刻蚀工艺以及其发展状况.重点对底部抗反射涂层的最新研究进展进行了总结,尤其是碱溶型底部抗反射涂层在光刻胶中的应用研究,最后对底部抗反射涂层的发展前景和方向进行了展望.
关键词:
光刻胶
,
光刻技术
,
底部抗反射涂层
张煜霖
,
彭博
,
袁妍
,
刘仁
,
刘敬成
,
李治全
,
刘晓亚
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2016.05.452
本文以苯乙烯磺酸钠(SS)、7-(4-乙烯基苄氧基)-4-甲基香豆素(VM)和丙烯酸(AA)作为反应单体,合成了一种光敏性双亲共聚物PSVMA,利用1 HNMR与UV-Vis光谱对其结构和组成进行了表征.以PSVMA作为软模板和掺杂剂,氯金酸作为氧化剂,通过化学氧化法聚合得到水分散的PEDOT∶ PSVMA/AuNPs导电复合物,平均粒径是66.7±0.5 nm.将其作为基础墨水,调节配方制得了PEDOT∶ PSVMA/AuNPs喷墨打印墨水,分别以相纸和PET膜为基材制得了图案化的柔性导电膜,该柔性导电膜具有较好的导电性,经紫外光引发导电膜中的香豆素基团二聚后,其耐水性大大提高.
关键词:
导电复合物
,
PEDOT
,
金纳米粒子
,
双亲性聚合物
高菲
,
曹建诚
,
刘敬成
,
刘仁
,
袁妍
,
李治全
,
刘晓亚
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2017.01.034
近几年,由于光触发自修复聚合物具有可控快速等优势,其在自修复聚合物领域中占据了重要的地位.光触发自修复聚合物实现自修复的方法主要分为3类,分别是基于光交联反应的自修复、基于光触发交换反应的自修复和基于光热效应的自修复.本文主要从光触发自修复聚合物的修复机制以及修复过程中涉及的化学本质两个方面,重点阐述了上述3类光触发自修复方法的最新研究进展,强调3种光触发自修复之间的联系和共同点.同时,对光触发自修复聚合物未来的发展前景进行了展望.
关键词:
光触发
,
自修复
,
聚合物
王宝清
,
卢杨斌
,
刘敬成
,
张胜文
,
刘仁
,
刘晓亚
涂料工业
以不同相对分子质量的聚碳酸酯二元醇(PCDL)为主要原料与异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)反应所得预聚体PCDL PUA,再分别用甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)和季戊四醇三丙烯酸酯(PET3A)为封端剂,合成了一系列光固化聚氨酯丙烯酸酯(PCDLH PUA和PCDLP PUA).用FT IR、GPC、UV光谱仪、拉伸测试表征所得产物结构和性能,分别考察PCDL相对分子质量和封端剂对产物结构和性能的影响.结果表明:随PCDL相对分子质量增大,PCDL PUA相对分子质量和黏度增大,其固化膜杨氏模量逐渐减小,断裂伸长率增大；PET3A封端的PCDLP PUA相对分子质量、黏度和杨氏模量均大于HEMA封端的PCDL-HPUA.所有PCDL-PUA系列光固化漆膜性能均有优异的耐化学性.
关键词:
聚氨酯丙烯酸酯
,
聚碳酸酯二元醇
,
光固化
袁妍
,
刘敬成
,
吴海强
,
费小马
,
刘仁
,
刘晓亚
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2014.04.329
印刷电子技术较传统硅基微电子技术具有大面积、柔性化与低成本的优势,具有广阔的应用前景.而印刷电子材料的制备是印刷电子技术得以蓬勃发展的关键所在.碳纳米管(CNTs)是近年来发展迅速的新型碳材料之一,可应用在透明导电薄膜、晶体管、电容器、传感器、催化剂、高强度材料等各个材料领域.本文主要介绍了采用双亲共聚物改性CNTs,制备适用于印刷电子的导电墨水及其在印刷电子器件上的应用.
关键词:
印刷电子
,
碳纳米管
,
双亲嵌段共聚物
,
气敏传感器
刘敬成
,
张胜文
,
周琼
,
刘仁
,
刘晓亚
,
王春林
高分子材料科学与工程
用液体端羧基丁腈橡胶(CTBN)对固体环氧树脂(EP)进行改性,合成了CTBN-EP预聚物,研究了CTBN-EP/HTP-305体系的微观形貌、力学性能和热性能.研究结果表明,随着CTBN含量的增大,冲击强度及断裂伸长率显著提高,说明通过CTBN化学预聚改性的EP韧性提高,而体系的拉伸强度和热性能略有下降.动态热机械分析(DMA)测试体系的动态力学性能结果表明,体系出现了两相结构(Tg对应温度分别是-60℃和80℃～100℃).扫描电镜(SEM)分析表明,固化过程中析出了橡胶相并均匀分散在环氧树脂基体中,形成了剪切空洞变形结构.
关键词:
端羧基丁腈橡胶
,
环氧树脂
,
预聚物
,
增韧改性
刘敬成
,
贾秀丽
,
张胜文
,
刘仁
,
江金强
,
刘晓亚
高分子材料科学与工程
通过自由基共聚反应合成了以甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）、甲基丙烯酸羟丙酯（HPMA）、丙烯酸异辛酯（EHA）及苯乙烯（St）为单体的共聚物P（GMA-HPMA-EHA-St）（PGHES）,用含异氰酸根的不饱和单体丙烯酸羟乙酯（HEA）-异佛尔酮二异氰酸酯（IPDI）对PGHES进行接枝改性得到得到含聚氨酯（PU）结构的聚丙烯酸酯共聚物PGHES-PUA。傅立叶红外光谱测试表明得到目标产物。用PGHES-PUA对环氧树脂（EP）进行改性,研究了体系的力学性能及热性能,结果表明,PGHES-PUA改性后的环氧树脂冲击强度提高,增韧改性效果较好,动态热机械分析（DMA）测试了体系的动态力学性能。热分析（DSC）和热重分析（TGA）表明体系的玻璃化转变温度及耐热性无明显变化。扫描电镜（SEM）分析表明PGHES-PUA在EP固化时发生微相分离。
关键词:
聚氨酯
,
共聚物
,
丙烯酸酯
,
环氧树脂
陈宁
,
杨林
,
张胜文
,
刘敬成
,
刘晓亚
高分子材料科学与工程
经溶胶-凝胶法制得纳米SiO2,用不同结构的双键硅烷偶联剂对其表面进行原位接枝改性,得到两种光敏纳米SiO2（M70SiO2和M50SiO2）,并将其添加到紫外光固化丙烯酸酯预聚物中,制得杂化光致抗蚀材料。通过测定光敏参数（D0n.5）考察其光敏性知,杂化光致抗蚀材料光敏性明显增加,当光敏纳米SiO2的质量分数增至13.7%～15.8%时,光敏参数达25 mJ/cm2～27 mJ/cm2;用差示扫描量热仪（DSC）及热机械分析（TMA）考察抗蚀材料的热性能,结果显示,随光敏纳米SiO2用量增加Tg升高,热膨胀系数减小,同时分辨率和精密性并未因光敏纳米SiO2的加入而降低。
关键词:
光敏纳米SiO2
,
光致抗蚀材料
,
杂化
,
光能量敏感度
,
分辨率
熊小梅
,
刘敬成
,
刘仁
,
贾秀丽
,
江金强
,
刘晓亚
高分子材料科学与工程
通过巯基链转移支化聚合法,以4-乙烯基苄硫醇(VBT)为支化单体,丙烯酸正丁酯(BA)、苯乙烯(St)、丙烯酸(AA)为共聚单体,偶氮二异丁腈(AIBN)为引发剂,丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)为溶剂,合成了HBPs.利用甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)环氧基与HBP羧基的反应,向HBP中引入双键制备了具有碱溶性和光固化特性的G-HBP.采用FT-IR、1 H-NMR、DSC、凝胶色谱(GPC)-激光光散射(LS)-示差黏度(DV)三检测仪表征了聚合物的结构及性能,验证了其超支化结构;将合成的G--HBP用作负性光致抗蚀剂的主体树脂,测试了光致抗蚀剂显影成像过程参数.结果表明,显影时间为40 s,去膜时间为30 s,感度级数为7级.抗蚀剂性能优异,分辨率可达到40 μm.
关键词:
超支化
,
巯基链转移
,
光致抗蚀剂
舒航
,
刘敬成
,
王春林
,
刘仁
,
张胜文
,
刘晓亚
高分子材料科学与工程
以甲基丙烯酸（MAA）、甲基丙烯酸甲酯（MMA）、甲基丙烯酸羟乙酯（HEMA）和甲基丙烯酸苄基酯（BZMA）为原料，通过自由基聚合制备了聚甲基丙烯酸酯系列共聚物PMMHB，再用甲基丙烯酸缩水甘油酯（GMA）与PMMHB反应制得光敏共聚物PMMHB—G。用傅立叶红外光谱（FT—IR）、核磁共振氢谱（^1H-NMR）、凝胶渗透色谱（GPC）、热重分析（TGA）和差示扫描量热（DSC）表征了聚合物的结构与性能，用光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）观测了光致抗蚀剂的耐酸性、微观线路及分辨率。结果表明，随共聚物组成中BZMA含量增加，其分子量（Mn）和玻璃化温度（L）呈下降趋势，热分解温度（Td）提高。光致抗蚀剂的耐酸性随BZMA含量的增加而有所提高。由PMMHB-G制得光致抗蚀剂的图像线路清晰笔直，分辨率可达到40μm。
关键词:
甲基丙烯酸酯
,
UV固化
,
光敏共聚物
,
光致抗蚀剂
