赵文涛
,
蒲延芳
,
吴永涛
,
闻学兵
,
史景利
材料导报
采用电泳沉积法在石墨基体上制备厚度可控的Si涂层,考察了电泳沉积参数(电压、沉积时间、固含量及添加剂量)对涂层沉积量的影响.所制备的Si涂层通过烧结与石墨基体发生在位反应形成SiC涂层.用SEM观察涂层烧结前后的形貌,发现烧结后Si渗入基体内部.孔径分布数据表明所形成的SiC涂层导致石墨孔径变小.实验提供了一种制备SiC涂层的新方法,电泳沉积一烧结可用于C/SiC复合材料的制备.
关键词:
电泳沉积
,
烧结
,
SiC
,
涂层
吴永涛
,
韩润生
,
任涛
,
赵冻
,
张小培
中国稀土学报
doi:10.11785/S1000-4343.20170313
巧家茂租铅锌矿床是滇东北矿集区的代表矿床之一,除矿石矿物闪锌矿、方铅矿、黄铁矿外,萤石是其主要的脉石矿物.通过萤石的稀土元素地球化学特征研究,发现其中REE含量变化较大,特征参数也有差别,但其球粒陨石标准化曲线分配模式基本一致,不同矿化带萤石均具有明显的Ce负异常、中稀土富集、分配曲线相对平缓的特征.从铅锌矿体中心到外围矿化带,萤石稀土元素呈现∑REE逐渐减少、LREE富集变为HREE富集,δEu正异常变为δEu负异常,δCe逐渐变小的变化特征.表明该矿床萤石的形成是一个连续过程,不同矿化带的萤石是同一体系经历不同阶段的产物.通过萤石的形成机制分析,认为该矿床萤石是热液作用的产物,是由富含F的成矿流体沿构造活动带从下向上运移,与灯影组地层的白云岩发生水-岩的相互作用,使流体中的CaF2产生过饱和而大规模沉淀析出形成的,且随着热液向两侧围岩迁移,不断与围岩发生水岩反应,分别形成了不同矿化带的萤石.本文研究对揭示矿床铅锌成矿机制具有重要意义.
关键词:
萤石
,
稀土元素地球化学特征
,
茂租铅锌矿床
,
成矿流体
段晓东
,
叶恩东
,
吴永涛
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2006.05.015
以致密电熔刚玉、电熔镁砂为主要原料,选用铝酸钙水泥、硅微粉和ρ-Al2O3微粉为主要结合剂,采用电熔刚玉为骨料,固定骨料基质=7030(质量比),基质组成中固定电熔镁砂细粉、α-氧化铝微粉加入量均为6%不变,改变致密电熔刚玉细粉、铝酸钙水泥、硅微粉和ρ-Al2O3微粉的加入量,配制成3种结合系统的刚玉-MgO浇注料.铝酸钙水泥-硅微粉结合系统中硅微粉加入量固定为1%,铝酸钙水泥加入范围为0~15%;硅微粉结合系统中硅微粉的加入范围为0.3%~2.5%;ρ-Al2O3微粉-硅微粉结合系统中硅微粉加入量固定为0.3%,ρ-Al2O3微粉的加入范围为1%~10%.检测1000 ℃ 3 h、1350 ℃ 3 h、1600 ℃ 3 h处理后试样的冷态耐压强度、体积密度、显气孔率、加热永久线变化率等物理指标和抗渣侵蚀和渗透性能,研究3种结合系统对刚玉-MgO浇注料的物理性能和抗渣性能的影响.试验结果表明:合理控制基质中结合剂的加入量可以获得综合物理性能优良的无水泥刚玉-MgO浇注料;硅微粉和ρ-Al2O3微粉-硅微粉结合刚玉-MgO浇注料的抗渣性能优于铝酸钙水泥-硅微粉结合刚玉-MgO浇注料.
关键词:
刚玉-MgO浇注料
,
铝酸钙水泥
,
硅微粉
,
ρ-Al2O3
,
抗渣性
工程热物理学报
根据《吴仲华奖励基金章程》(吴奖[2008]01号),经各高等院校、中国工程热物理学会和中国科学院工程热物理研究所认真评选和推荐,吴仲华奖励基金理事会评审并确定授予青年学者戴巍、罗坤、唐桂华“吴仲华优秀青年学者奖”,授予程雪涛等10位同学“吴仲华优秀学生奖”。
关键词:
基金
,
奖励
,
评选
,
获奖者
,
中国科学院
,
青年学者
,
物理研究所
,
高等院校
工程热物理学报
根据《吴仲华奖励基金章程》(吴奖[2010]01号),经各高校、中国工程热物理学会和中国科学院工程热物理研究所遴选和推荐,以及吴仲华奖励基金理事会评审,决定授子钟文琪、张鹏、张明明、徐纲4位青年学者“吴仲华优秀青年学者奖”,授予顾超等13位同学“吴仲华优秀学生奖”。
关键词:
基金
,
奖励
,
获奖者
,
中国科学院
,
评选
,
青年学者
,
物理研究所
,
物理学会
倪卓
,
李丹
,
钟玉莲
,
刘丽双
,
陈展明
材料导报
采用十八胺对永固红F5R进行化学修饰,以Span-80为稳定剂,四氯乙烯为分散介质,制备了分散性和稳定性良好的电泳液.以此电泳液为囊芯,脲甲醛树脂为壁材,制备了一种红色电子墨水微胶囊,研究了投料比、合成温度、酸化时间和搅拌速度等对合成微胶囊的影响.结果表明,合成的微胶囊形貌呈规则球形,表面光滑,囊壁结构致密,强度较好,包覆率达到82%,囊芯含量达到76%.永固红F5R电泳液微胶囊具有明显的电场响应行为,可以作为柔板显示器的功能材料.
关键词:
电子墨水
,
微胶囊
,
永固红F5R
,
电场响应