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上海金吴乙烯管线的腐蚀检测

樊洪 , 蒋霞星 , 刘志刚

腐蚀与防护 doi:10.3969/j.issn.1005-748X.2006.04.014

金吴乙烯管线在运行十几年后需对全线的腐蚀情况作评估,调查了管道的涂层、厚度、腐蚀情况及阴极保护系统的效果,结果表明涂层防护仍是有效的,阴极保护的外加电流装置运行正常,保护系统的维护是非常重要的.

关键词: 涂层 , 阴极保护 , 评估

铝熔体泡沫化过程体积变化与胞状组织的演变

宋振纶 , 马立群 , 吴照金 , 何德坪 , 舒光冀

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.01.005

采用实时测量铝熔体发泡过程中体积变化的方法，对不同发泡时期形成的泡沫铝样品孔的结构分布进行了分析，研究了铝熔体泡沫化过程中熔体体积变化的规律以及胞状组织演变．

关键词: 泡沫铝 , 泡沫化过程 , 体积变化 , 胞状组织结构

泡沫Al孔结构的影响因素

吴照金 , 何德坪

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.03.010

揭示了泡沫化过程中Al熔体泡沫孔隙率、导热系数的变化规律,研究了泡沫Al的孔隙率、孔径以及导热系数的变化规律及其对应关系.结果表明:Al熔体泡沫的孔结构及导热系数随泡沫化时间而变化.Al熔体泡沫的孔结构直接影响其凝固后的孔结构,而导热系数则间接影响孔结构.

关键词: 泡沫Al , 熔体泡沫化 , 泡沫Al的液态孔隙率 , 导热系数

吴家塬金矿选矿工艺研究及生产实践

张大铸 , 贾振武

黄金 doi:10.3969/j.issn.1001-1277.2001.02.011

根据吴家塬金矿矿石为含砷微细粒金矿石这一性质,针对该矿原选矿工艺存在的问题进行了小型试验研究.依据小型试验结果,将原流程的一段磨矿改为二段磨矿;将浮选单一用药改为多种混合用药.流程改造后,金回收率提高了26.11%,年增效益154.21万元.

关键词: 含砷微细粒金矿石 , 二段磨矿 , 工艺流程 , 金回收率

第四届“吴仲华奖励基金”评选出获奖者

工程热物理学报

根据《吴仲华奖励基金章程》（吴奖[2008]01号），经各高等院校、中国工程热物理学会和中国科学院工程热物理研究所认真评选和推荐，吴仲华奖励基金理事会评审并确定授予青年学者戴巍、罗坤、唐桂华“吴仲华优秀青年学者奖”，授予程雪涛等10位同学“吴仲华优秀学生奖”。

关键词: 基金 , 奖励 , 评选 , 获奖者 , 中国科学院 , 青年学者 , 物理研究所 , 高等院校

第五届“吴仲华奖励基金”评选出获奖者

工程热物理学报

根据《吴仲华奖励基金章程》（吴奖[2010]01号），经各高校、中国工程热物理学会和中国科学院工程热物理研究所遴选和推荐，以及吴仲华奖励基金理事会评审，决定授子钟文琪、张鹏、张明明、徐纲4位青年学者“吴仲华优秀青年学者奖”，授予顾超等13位同学“吴仲华优秀学生奖”。

关键词: 基金 , 奖励 , 获奖者 , 中国科学院 , 评选 , 青年学者 , 物理研究所 , 物理学会

吴航钢铁公司热轧不锈窄带钢生产线

褚元强

上海金属 doi:10.3969/j.issn.1001-7208.2002.06.004

介绍福州吴航钢铁公司热轧不锈窄带钢生产线的设计和工艺、设备情况,投产后的实践表明,该生产线的设计基本是成功的.此外还讨论了工艺实践中尚存在的问题和改进建议.

关键词: 不锈窄带钢 , 热轧生产线 , 工艺设计 , 半连轧机

低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响

李铸国 , 华学明 , 吴毅雄 , 三宅正司

金属学报

用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜, 研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响。结果表明, 高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化。即使沉积温度低于150℃, 当入射基板离子数和Ti原子数的比值J/JTi≥4.7时, 沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长, 薄膜微观结构致密, 硬度达到25GPa, 残余压应力小。

关键词: TiN薄膜 , null , null

低能离子束辅照对溅射镀TiN膜生长的影响

李铸国 , 华学明 , 吴毅雄 , 三宅正司

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2005.10.016

用诱导型等离子体辅助磁控溅射装置在Si(100)表面低温沉积TiN膜,研究了高密度低能量(≈20 eV)离子束辅照对溅射镀TiN膜生长、结构和性能的影响.结果表明,高密度低能离子束辅照会改变TiN膜的择优生长方向并使薄膜致密化.即使沉积温度低于150℃,当入射基板离子数和Ti原子数的比值Ji/JTi≥4.7时,沉积的TiN膜仍可具有完全的(200)面择优生长,薄膜微观结构致密,硬度达到25 GPa,残余压应力小.

关键词: TiN薄膜 , 物理气相沉积(PVD) , 择优取向 , 离子照射

吴式枢先生简历

原子核物理评论

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