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工艺参数对阳极弧放电等离子体制备镍纳米粉的影响

在Ar惰性保护气氛中,采用阳极弧放电等离子方法用自行研制的装置制备出了高纯Ni纳米粉末.研究了在制备过程中电弧电流、气体压力等工艺参数对纳米粉产率及粒度的影响.利用XRD、TEM对制得的样品的形貌、晶体结构、粒度及其分布进行测定.结果表明,适当控制某些工艺参数就能制取粒径范围在20 nm～100 nm的纳米粉,在其它工艺参数不变条件下,气压升高或电弧电流增大,都会使粒度增大,产率提高.

关键词: 阳极等离子体 , 纳米粉 , 粒度 , 工艺参数

高k栅介质的研究进展

卢振伟 , 吴现成 , 徐大印 , 赵丽丽 , 张道明 , 王文海 , 甄聪棉

材料导报

随着集成电路的飞速发展,半导体器件特征尺寸按摩尔定律不断缩小.SiO2栅介质将无法满足Metal-oxide-semniconductor field-effect transistor(MOSFET)器件高集成度的需求.因此,应用于新一代MOSFET的高介电常数(k)栅介质材料成为微电子材料研究热点.介绍了不断变薄的SiO2栅介质层带来的问题、对MOSFET栅介质材料的要求、制备高k薄膜的主要方法,总结了高k材料的研究现状及有待解决的问题.

关键词: 微电子材料 , 栅介质 , 等效SiO2厚度 , 薄膜

超硬新材料氮化碳的制备与研究

吴现成

材料导报

关键词:

多铁材料中的耦合效应和单相BiFeO3的研究状况

张道明 , 吴现成 , 徐大印 , 赵丽丽 , 王文海

材料导报

多铁材料同时自发地具有铁电性、铁磁性或铁弹性,这些性质在一定条件下相互耦合,极大地改变了多铁材料的性能.人们又发现BiFeO3的居里温度Tc=820K和奈尔温度TN=643K远在室温之上,在同一相中同时具有铁电有序和反铁磁有序,这样可以用外加电场控制反铁磁畴提高磁性或者用外加磁场控制铁电畴,提高极化强度,所以该材料已成为一个研究热点.主要介绍了单相BiFeO3薄膜的结构和物理性质,同时介绍了多种提高单相BiFeO3薄膜磁化强度、铁电性和压电性的方法.

关键词: 磁电耦合 , 铁电性 , 磁化强度 , 压电性

氮化碳薄膜的结构与特性

陈光华 , 吴现成 , 贺德衍

无机材料学报

采用射频等离子体增强化学气相沉积（ＣＶＤ）＋负偏压热丝辅助方法直接在Ｓｉ（１００）衬底上制备了多晶Ｃ_３Ｎ_４薄膜．Ｘ射线衍射测试表明，薄膜同时含有α－和β-Ｃ_３Ｎ_４晶相以及未知结构，没有观测到石墨衍射峰．利用扫描电子显微镜观测到线度约２μｍ、横截面为六边形的β－Ｃ_３Ｎ_４晶粒．纳米压痕法测得薄膜的硬度达７２．６６ＧＰａ．

关键词: 化学气相沉积 , C₃N₄ , XRD , SEM , Hardness

氮化碳薄膜的结构与特性

陈光华 , 吴现成 , 贺德衍

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2001.02.031

采用射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)+负偏压热丝辅助方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射测试表明,薄膜同时含有α-和β-C3N4晶相以及未知结构,没有观测到石墨衍射峰.利用扫描电子显微镜观测到线度约2μm、横截面为六边形的β-C3N4晶粒.纳米压痕法测得薄膜的硬度达72.66 Gpa.

关键词: 化学气相沉积 , 氮化碳 , 薄膜 , 扫描电镜 , 硬度